Gebraucht NOVELLUS Inova XT #9354273 zu verkaufen

NOVELLUS Inova XT ist ein Halbleiter-Waferbearbeitungsreaktor, der eine erstklassige Prozesssteuerung und Automatisierung bietet. Es wurde entwickelt, um dem Bedarf der Branche an einer Hochleistungsplattform gerecht zu werden, die eine produktive Waferbearbeitung mit verbesserter Planarisierung, Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit ermöglicht. Inova XT verfügt über ein Hochfrequenz-Antriebsnetzteil für eine schnellere Verarbeitung. Seine tiefenreaktive Ionenätztechnik (DRIE) ermöglicht höhere Seitenverhältnisse und größere Schritthöhen und ermöglicht die Herstellung von Mikrostrukturen mit komplexen Profilen für eine Vielzahl von optoelektronischen, mikroelektronischen und MEMS-Geräten. Der Reaktor ist mit einer Vielzahl von Zubehörteilen ausgestattet, wie einem Hochleistungs-HF-Generator, einem Temperaturregler, einer präzisen pH-Anzeige, einem automatisierten Tablett- und Flaschenfüllsystem und einem Roboterarm. Der Roboterarm unterstützt das Fernbe- und Entladen von Wafern in den und aus dem Reaktor und hilft dabei, Kreuzkontaminationen zu minimieren. NOVELLUS Inova XT ist für die Integration in ein industrielles Umfeld mit mehreren Modulen und Kammern konzipiert, die seine Sauberkeit und Sicherheit gewährleisten und erhalten. Es kommt mit einem fortschrittlichen Prozessleitsystem, das die konsistente, sichere und wiederholbare Ausführung von Prozessen gewährleistet, während die benutzerfreundlichen Steuerungssysteme die für Wartung und Betrieb benötigte Personalzeit minimieren. Der Reaktor ist auch bei der Abscheidung und Ätzung von Oxid-, Nitrid- und Polysiliziumschichten hocheffizient ausgelegt. Seine Mehrkammer-programmierbare Umgebung auf Waferebene ermöglicht das Abscheiden und Ätzen hochwertiger Schichten mit Nitrid-, Oxid-, Polysilizium- und Mehrschichtkombinationen. Die Inova XT Plattform bietet ein kostengünstiges, wartungsarmes, prozesskompatibles und wiederholbares System mit integriertem Roboterarm für eine effiziente Automatisierung. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er hervorragende Oberflächenplanarisierung, hohe Prozesswiederholbarkeit und hervorragende Produktivität in skalierbarer und modularer Weise erzeugt. Es bietet einen hervorragenden Waferdurchsatz und eliminiert konventionelle manuelle Operationen und Wartungen.