Gebraucht NOVELLUS Inova #100556 zu verkaufen

NOVELLUS Inova ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es zeichnet sich durch seine überlegene Fähigkeit zur Herstellung überlegener, ultradünner Materialschichten mit konsistenter und gleichmäßiger Dicke für Anwendungen wie Hochleistungs-Nanodesigns und Speicherchips aus. Die Maschine verfügt über ein innovatives Design mit einer eingebauten Sputterfähigkeit, die dazu beiträgt, den Abscheidungsprozess weiter zu optimieren und jegliche Variabilität der Filmdicke, Schichtgleichmäßigkeit und Präzision zu beseitigen, die von fortgeschrittenen Halbleiterbauelementen benötigt wird. Inova-Reaktor verwendet eine Zwei-Zonen-Konstruktion, um zwei Prozesstemperaturen unterzubringen. Die erste Zone dient zur Vorwärmung des Substrats vor der Einführung in den CVD-Prozess, während die zweite Zone die wichtigste CVD-Verarbeitungszone ist. Die Nutzung von nur zwei Heizzonen hilft, Wärmeenergie zu sparen, die Effizienz zu verbessern und die Betriebskosten zu senken. Durch die Übertragung des Substrats von der ersten in die zweite Zone wird die Temperaturänderung minimiert, wodurch ein thermischer Schock und eine Beschädigung der Materialoberfläche vermieden werden. Der Reaktor verfügt zudem über ein patentiertes aktives Temperaturregelsystem (ATCS), das eine überlegene thermische Gleichmäßigkeit über die gesamte Substratoberfläche bietet. Darüber hinaus bietet das ATCS durch seine fortschrittliche Echtzeit-Überwachung und Kontrolle verschiedener im CVD-Prozess eingesetzter Gase, einschließlich Sauerstoff, Abscheidungsgas, Halogengas und anderer ausgewählter Gase, eine überlegene Prozesssteuerung. Mit dieser Funktionalität können Anwender Prozessrezepte problemlos im Handumdrehen programmieren, die Prozessstabilität gewährleisten und schwierige Gastransporte während des Prozesses minimieren. Neben seinem überlegenen Design ist NOVELLUS Inova auch mit einer ganzen Reihe von Reinigungswerkzeugen nach dem Prozess ausgestattet, wie thermische Verarbeitung, Ionenätzen und schnelles thermisches Glühen. So können Anwender den gesamten Prozess von der Reinigung bis zur Abscheidung in einem einzigen, effizienten Betrieb schnell abschließen. Dies hilft, den Bedarf an zusätzlichen Arbeitskräften und Ressourcen zu reduzieren oder zu beseitigen. Abschließend ist Inova ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell für die Halbleiterverarbeitungsindustrie entwickelt wurde. Sie ermöglicht es Herstellern, dank Zweizonendesign, aktiver Temperaturregelung und einer ganzen Reihe von Reinigungswerkzeugen nach dem Prozess überlegene Ergebnisse in einem hocheffizienten Prozess zu erzielen. Als solche ist es die ideale Wahl für Hersteller, die ein effizientes und zuverlässiges Abscheidewerkzeug mit überlegener Filtrations- und Prozessgleichförmigkeit suchen.