Gebraucht NOVELLUS Inova #9178318 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9178318
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2008
PVD System, 8"
Sputter deposition
Cu Seed
Main system:
Mainframe
Transfer
Load
Aligner
Cool
Degas chamber
Loadlock
(2) LPT2000 SMIF Systems
Handler system:
3-Axis trust control ConMag II robot assy
With ceramic blade (Transfer robot)
AWC BROOKS Mag 7 robot assy
With ceramic end effector (FE Robot)
Process chambers:
Ta
Cu
DMC
Hardware:
Main power distribution
Transformer
AC Control / Generator rack
(4) 9600 Cryo compressors
Mydax chiller
Polycold
Affinity chiller
(4) Dry pumps
Missing parts:
DMC LF Generator
DMC Turbo pump
Cu Chamber water box
Cu Chamber SIOC
Ta Chamber SIOC
Degas EV block
Ta EV Block
PVD Chamber quartz lamp
Loader ion gauge
Aligner lamp
HF Match
Degas table
CIP & Upgrades:
Ta Chamber process kit: SST Process kit
Ta HCM Target: Dual coil Ta with short lip
Damaclean dome shield: Single piece
HCM Cu Target: 3/4" HCM Cu Thickwall target
ESC Chuck: Rev2
Degas stn leak chk port (Front end)
Degas flexline
PVD Chamber flexline (Ta/Cu)
PVD Chamber HCM (Ta/Cu): Metal strain relief
PVD Chamber RGA port
Loadlock ion gauge port extension
PVD Chamber condensation control (Ta/Cu)
Dual loadlocks:
Chord mapping
Cryo baffle plate
Cryo pumps: CTI CRYOGENIC 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
LL Short light curtain
PEC Cassette nests
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Wafer handler / Frontend CHM:
Robot arm: Ceramic
Cryo pumps: CTI CRYOGENIC 8" F & 4"
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Degas station:
Degas station: 4pt Mechanical clamp
AERA FC-7800CD MFC 4 argon: 1.0/20
Cool station:
Standard
AERA FC-7800CD MFC 3 Argon: 1.0/100
Stage O-ring groove size: 0.121-0.124"
Transfer module:
Cryo pump: CTI CRYOGENIC 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Robot: AWC BROOKS Mag 7
Robot end effector: Ceramic
Lid cover: Clear lid
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Damaclean module:
Cylinder source: Ceramic
Gas box: (3) Gases
RF p/s: ADVANCED ENERGY RF 10s & LF 10WC
Plasma shield: Stationary
Pump: Varian V 701 VT
Stage: Non-ESC
Shield kit: Standard DMC non ESC
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Manometer gauge: MKS Inst 627B.1TBD1B 100mT/0.1
AERA F-7800CD MFC 4 H2: 1.0/50
AERA F-7800CDMFC 1 Ar: 1.0/50
Gate valve shield sssy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Ta(N) Chamber:
Cryo pump: CTI CRYOGENIC 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Ar MFC
N2 MFC
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Manometer gauge: MKS Inst 627B.1TBD1B 100mT/0.1
Argon BSG manometer gauge: MKS Inst 750B11TCB2GA
AERA FC-7800CD MFC 3 N2: 1.0/200
AERA FC-7800CD MFC 1 Ar: 1.4/100
MKS UPC 1 Ar: 1.0/10
Shield kit:
Shield support ring, RF FF: Ceramic
RF Plug: Ceramic
Gate valve shield kit not installed
Arc sprayed SST:
Assy, anode, HCM
Shield adapter
Deposition shield
ESC Table shield
Weight clamp, RF
Bottom shield
Source:
DC p/s: CPI 36 KW
D-Coil
M-Coil
Source magnet: Array
Top magnet: Rotating
Target: Ta
ESC Power supply: TREK 684-I
Table:
Assy, table, HCM
POLYCOLD N2 Cooling lines: Vacuum-jacketed
MKS UPC
Stage: ESC With active cooling
Heat exchanger for chilled N2 exhaust
Z-Table
RF Ready
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Cu Chamber:
Cryo pump: CTI CRYOGENICS 8" F
Cryo pumps compressor: HELIX CTI 9600
Ar MFC
Convectron gauge: GRANVILLE PHILIPS 275821 Mini-convectron
Ion gauge: GRANVILLE PHILIPS 354001-YG-T Micro-ion mod
Manometer gauge: MKS inst 627B.1TBD1B 100mT/0.1
Argon BSG manometer gauge: MKS inst 750B11TCB2GA
MFC:
AERA FC-7800CD MFC 3 N2: 1.0/200
AERA FC-7800CD MFC 1 Ar: 1.4/100
MKS UPC 1 Ar: 1.0/10
Shield kit:
ESC Clamp: Grit blasted
Assy, anode, HCM: Grit blasted SST
Shield adapter: Grit blasted SST
Gate valve shield kit
Grit blasted, Non RF:
Deposition shield
ESC Table shield
Bottom shield
Source:
DC p/s: CPI 36 KW
D-Coil
M-Coil
Source magnet: Array
Top magnet: Rotating
Target: Cu
ESC Power supply: TREK 684-I
Table:
MYDAX Fluid cooling line: Vacuum-jacketed
MKS UPC
Stage: ESC With active cooling
Z-Table
Gate valve shield assy:
VAT Rectangular gate valve MONOVAT classic
With gate compl (Gate aluminum with viton seal)
Auxiliary subfab equipment:
Cu Chamber chiller: MYDAX 1-VLH7-WB
Ta Chamber chiller: POLYCOLD 152-WC-CE/S2
System DI water chiller: Affinity E series EWA-15DK-GE06CBC0 chiller
Dry pumps: EBARA EV-S20N (High efficiency pump)
Main power distribution: Cutler hammer cabinet C2/Inova
ECR: C2/Inova ECR 208 VAC, (3) racks
2008 vintage.
NOVELLUS Inova ist ein von NOVELLUS Systems Inc. Diese hochentwickelte Kammer enthält eine Reihe von Angeboten, die eine überlegene Prozesslösung für die Halbleiterherstellung bieten. Inova ist eine skalierbare Plattform, die eine breite Palette von Prozessfunktionen für die Front- und Back-End-Produktion der heutigen fortschrittlichen Prozessknoten und Gerätestrukturen bietet. NOVELLUS Inova bietet zwei verschiedene CVD-Lösungen: die Express™ und die Prime. Das Express™ ist eine Single-Wafer-Low-Vakuum-CVD-Lösung, die perfekt für niedrigere Temperaturprozesse wie die Rückbehandlung von III-V und CMOS-Materialschichten geeignet ist und verbesserte Betriebskosten bietet. Darüber hinaus ist der Express in der Lage, empfindliche, dünne Schichten aus Oxid und Nitrid zu verarbeiten, die häufig bei der Planarisierung und Lokalisierung fortgeschrittener Transistoren verwendet werden, um das Risiko einer kostspieligen Kontamination zu reduzieren. Das zweite Angebot, Prime, ist ein Multi-Wafer-Hochvakuum-CVD-System, das sich ideal für ultradünne Folien eignet, die für FinFET- und FEOL-Prozesse verwendet werden. Die fortschrittliche Temperaturkontrolltechnologie des Prime garantiert bewährte Wiederholbarkeit über alle Ihre Losgrößen hinweg - Minimierung der Partikelerzeugung und perfekte Filmabscheidung. Neben der Bereitstellung modernster CVD-Prozessfähigkeiten bietet Inova Reaktor die fortschrittlichsten In-situ-Mess- und Prozesskontrollfunktionen der Branche. Die Scanning Electron Wavelength Dispersive X-ray (SEM-WDX) und die optische Messtechnik mit benutzerdefinierten Messparametern ermöglichen die Überwachung und Steuerung aller wichtigen Prozessparameter in Echtzeit. Dies ermöglicht eine maximale Optimierung des Ätz- oder Abscheideprozesses und gewährleistet eine präzise Prozesskontrollgenauigkeit, wodurch kritische Dimensions- (CD) -Fehler praktisch eliminiert werden. NOVELLUS Inova Reaktor bietet auch anspruchsvolle Automatisierungs- und Fernüberwachungsfunktionen für maximale Betriebszeit und Prozesssteuerung. Seine intuitive Benutzeroberfläche bietet eine effiziente Plattform für die automatisierte Erstellung und Implementierung von Rezepten, um Ihren Betrieb zu optimieren. Darüber hinaus ermöglichen die erweiterten Telemetriefunktionen eine Remote-Fehlerbehebung und Problemlösung, wodurch Ausfallzeiten minimiert werden können. Abschließend ist Inova ein marktführender, hochmoderner Reaktor, der die strengen Anforderungen an die Prozesskontrolle heutiger Gerätestrukturen im Nanometermaßstab erfüllt. Das Leistungsspektrum ermöglicht Benutzern den Zugriff auf die neuesten Prozessfunktionen und erweiterte Automatisierungsfunktionen für maximale Prozesskontrolle und Verfügbarkeit. Die fortschrittlichen messtechnischen Funktionen in situ und die ausgeklügelten Automatisierungs- und Fernüberwachungsfunktionen sorgen für maximale Up-Time und Prozesskontrollgenauigkeit.
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