Gebraucht NOVELLUS Inova #9383177 zu verkaufen

Hersteller
NOVELLUS
Modell
Inova
ID: 9383177
Wafergröße: 12"
PVD System, 12".
NOVELLUS Inova ist ein hochproduktiver Prozessreaktor für die Halbleiterindustrie, der bahnbrechende Tieftemperaturverarbeitung mit schneller Zykluszeit und hoher Gleichmäßigkeit verbindet. Seine einzigartigen patentierten Funktionen bieten eine vielseitige Plattform, die eine zuverlässige Verarbeitung der gesamten Palette von Technologien ermöglicht, vom fortschrittlichen Knoten bis zu Sub-5 nm. Inova-Reaktorfunktionen werden durch In-situ-Prozessdiagnostik, adaptive Steuerung und fortschrittliches Material-Targeting unterstützt. Das integrierte RFI-System (RF Impedance Match) bietet eine bessere Prozesssteuerung innerhalb eines sCMOS-Wafer-Behälters und gleichzeitig maximale Flexibilität für veränderte Prozessanforderungen. Der Reaktor wurde auch entwickelt, um eine breite Palette von Substraten zu unterstützen, einschließlich fortschrittlicher Wafer wie FinFET und 3D-Strukturen. NOVELLUS Inova Reaktor arbeitet bei Temperaturen bis 400 ° C bei Drücken von 200-600 mTorr, was eine beeindruckende Prozessflexibilität für Ätz-, Abscheidungs- und Glühfunktionen bietet. Der Reaktor verfügt über eine proprietäre Vapor Flow Dynamics (VFD) -Technologie, die eine verbesserte Abscheidekonformität und Nutzung komplexer neuer Abscheidungschemikalien ermöglicht. Inova Reaktor verfügt auch über eine innovative NOVELLUS Inova Pulsation Technologie, die Zykluszeit reduziert und gleichzeitig eine bessere Gleichmäßigkeit und weniger Defektivität fördert. Diese Technologie erzeugt in einer Sekunde eine kurze, präzise Anordnung von Impulsen, die zuverlässige Dünnschichtanwendungsprozesse ermöglicht. Es verwendet auch eine optimierte gaskinetische Verteilung, die Homogenität der Materialabscheidung gewährleistet. Inovas überlegenes Leistungsniveau wird durch sein ausgeklügeltes Temperatur- und Druckmanagementsystem erreicht. Die High-End-Verarbeitungssoftware wurde entwickelt, um Echtzeit und prädiktives Feedback bezüglich Wafer Process Index (PI) zu liefern, einem Schlüsselparameter im Halbleiterprozess. Benutzer können die PI verwenden, um die genaue Ätzrate, Abscheiderate oder Wafertemperatur zu bestimmen. Um die Prozessergebnisse weiter zu verbessern, bietet NOVELLUS Inova eine Reihe von Optimierungsfunktionen, wie Einheitlichkeit und In-Wafer-Targeting. Dies, gepaart mit einer Reihe zusätzlicher Software-Tools, sorgt dafür, dass stets höchste Qualität erzielt werden kann. Insgesamt ist Inova ein hochentwickelter Prozessreaktor, der darauf ausgelegt ist, die Produktivität und Effizienz zu maximieren und gleichzeitig die bestmögliche Ausbeute, Gleichmäßigkeit und Defektivität zu erzielen. Seine automatisierten Prozessfähigkeiten und innovativen Eigenschaften machen es zur perfekten Wahl für jeden Halbleiterprozess.
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