Gebraucht NOVELLUS Sabre 3D #9179871 zu verkaufen
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ID: 9179871
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
Electro chemical deposition (ECD), 12"
Single module
Configuration:
(1) PVC-4910 (SABRE 3D Single module)
(1) KB & Athena remote
(1) Additional (Third) FOUP - 300 mm
(1) RFID Reader (3) FOUP
(1) OHV CA Head-On transmission
(1) LT Front & rear (4) colors
(1) Aligner
(1) (2) APT Duets (4910)
(1) Chemical ADM (TSV Only)
(1) EBR 4910, (2) Duets
(1) TSV Copper
(1) 8 x 0 Config 1 Ba
(1) TF10000 With heater
(4) 300 mm, 1.00 EE, 0.40 mm Cont
(4) Copper TSV process package
(4) Degasser
(1) SABRE 3D Single, 2 APT, 2 EBR/SRD
(4) Cell specific flow meters
(1) NSR 17, NSR 1087310 Pneumatic flow switch
(1) NSR 18, Tool ladder 71-299012-00
(4) 9.5A, 750W Serial
(1) NSR 1, 845-154096-001 Trough vent, ver C
(1) NSR 2, 845-211454-001,KIT,SBR-3D,Bath R
(1) NSR 3, SW CESPTC53073A, Plate, leveling F
(1) NSR 4, Blue900109 BE Robot 8 cell
(1) NSR 5,CESPTC52432A Factory int ionizer
(1) NSR 6, 845-175917-001 8c Video monitor
(4) NSR 7, SW 856-155785-001 Kit UPGRD, TR 4
(1) NSR 8, 845-192680-001 KIT,SBR-3D,1087310
(1) NSR 9, Blue900137, Aligner, vortex,300 mm
(1) NSR 10, SW, 02-414924-02, ASSY,Drip pan,P
(1) NSR 11, SW, 02-443139-02, ASSY,Drip pan
(1) NSR 12, SW, 27-403019-00, Pump DI water
(1) NSR 13, SW, 857-170700-101, KIT,CNTCTR R
(1) NSR 14, SW, 857-170700-102, KIT,CNTCTR R
(1) NSR 15, SW, 856-200391-001, KIT,UPGRD,AI
(1) NSR 16, SW, 856-200391-002, KIT,UPGRD,AI
Currently installed
2015 vintage.
NOVELLUS Sabre 3D ist ein revolutionärer Halbleiterverarbeitungsreaktor, der zwei Schlüsseltechnologien kombiniert: chemische Dampfabscheidung (CVD) und atomare Schichtabscheidung (ALD). Es wurde entwickelt, um die Herstellung ultradünner Materialschichten für die Herstellung von Halbleitern zu erleichtern. Diese Ausrüstung bietet unübertroffene Präzision und Kontrolle bei Abscheideprozessen, wodurch Zykluszeiten und andere Prozesskosten, die sich auf den Ertrag auswirken können, deutlich reduziert werden. Sabre 3D bietet einen schnellen, zuverlässigen und wiederholbaren Prozess durch die Kombination von CVD und ALD für Abscheide- und Ätzoperationen. Es nutzt eine Hochleistungsgasquelle, bestehend aus Sauerstoff und verschiedenen anderen inerten Gasen, um eine „monochromatische“ und „supercleane“ Umgebung zu schaffen. Dies ermöglicht ultradünne Folien ohne Oberflächendefekte oder Verschmutzungen und ermöglicht so eine außergewöhnliche Kontrolle des Abscheideprozesses. NOVELLUS Sabre 3D Reaktor besteht aus drei Grundmodulen - einem Plasmagenerator, einer Kammer und einer Stromversorgung. Der Plasmagenerator ist eine Mikrowelleneinheit, die ein pyrogenes, nicht-thermisches Plasma erzeugt. Dies ist für die molekulare Aktivierung und Abscheidung dünner Filme auf dem Substrat verantwortlich. Die Kammer ist ein vakuumdichtes Gehäuse, das die Plasma- und Reaktorabschnitte des Systems aufnimmt. Es wurde entwickelt, um eine konsistente, saubere Umgebung zu erhalten, um einen wiederholbaren Prozess aufrechtzuerhalten. Die Stromversorgungseinheit liefert den richtigen elektrischen Strom zum Zünden und Halten des Plasmas. Sabre 3D Reaktor hat einen umfangreichen Temperaturbereich (von 90 ° C bis 500 ° C), so dass es für mehrere Prozesse verwendet werden kann. Es verfügt auch über fortschrittliche Automatisierung und Kontrollen, einschließlich einer hochpräzisen, integrierten optischen Einheit für die In-situ-Prozessüberwachung. Dies hilft, Prozessprobleme schnell zu identifizieren und zeitnah Feedback zur Prozessverbesserung zu geben. Schließlich bietet NOVELLUS Sabre 3D Reaktor eine einfache Verbindung zu jeder Prozesssteuerungsmaschine. Dies ermöglicht die Datenerfassung, Analyse und Prozessoptimierung für maximale Betriebszeit und Ausbeute. Sabre 3D Reaktor ist effizient, kostengünstig und bietet zuverlässige und wiederholbare Ablagerungseigenschaften. Es ist eine ideale Lösung für die hochvolumige, hochwertige Halbleiterherstellung.
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