Gebraucht NOVELLUS SABRE NEXT 300 #9161711 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9161711
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Cu ECP, 12"
Software OS: Windows
Non-SMIF
Automation online component: SECE
Wafer type: Notch
Inline flow: Left
Software:
Y2K completion: Yes
WL & RL:
RL library: Left
PPD type: PPD2
Laser: LAM
Stage: Ring chuck
2009 vintage.
NOVELLUS SABRE NEXT 300 ist ein hochmoderner Einzelwafer-Ätzreaktor auf Plasmabasis, der für Tiefätzanwendungen geeignet ist. Dieser Reaktor wurde für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt und dient zum fortgeschrittenen Ätzen von Silizium und anderen relevanten Verbindungen. Der Ätzprozess wird durch ein feldrekonfigurierbares induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) und eine sehr hohe HF-Leistungsdichte, die durch die Mehrfachmagnetfeld-ICP-Quellen gegeben wird, angesteuert. Diese Plasmaausrüstung produziert eine breite Palette von Plasmachemikalien und Energieverteilungen, um Präzision und schnelle Ätzprozesse zu gewährleisten. SABRE NEXT 300 ist so konzipiert, dass es einen sehr kleinen Platzbedarf und eine schmale Prozesskammer hat, um mehr Kontrolle über die Ätzbedingungen zu gewährleisten. Es kann mit NOVELLUS Auxiliary Port abgestimmt werden, einer einfach zu bedienenden grafischen Benutzeroberfläche, mit der Benutzer die Parameter einfach konfigurieren und die Prozessleistung einstellen können. Es verfügt außerdem über ein fortschrittliches Gasfördersystem, mit dem eine Reihe von Chemikalien in den Ätzprozess eingebettet werden können. Dies erhöht die Flexibilität und ermöglicht eine größere Kontrolle des Prozesses. NOVELLUS SABRE NEXT 300 wird mit NOVELLUS Motor Controller gesteuert, einer hochmodernen Bewegungssteuerung, die eine gründliche Kontrolle über bewegliche Komponenten wie Waferbewegung, Fokusbewegung und Vorprozessscanner ermöglicht. Dadurch wird das präzise und präzise Ätzen des Wafers gewährleistet. Darüber hinaus unterstützt NOVELLUS Motor Controller auch fortgeschrittene neue Prozesskammerfunktionen, wie eine Direkteinspritzkassetten-Dotiermaschine, die eine präzise Dotierung ermöglicht. Dieser Reaktor ist komplett konfigurierbar für eine Vielzahl von verschiedenen Anwendungen, sowie verschiedene Arten von Substraten, einschließlich verschiedener Materialien und Geometrien. SABRE NEXT 300 ist in der Lage, bis zu 0,5 Mikrometer Tiefe präzise zu ätzen und Prozesse, die eine minimale Profilabweichung erzeugen. Der universelle PPC + Regler ermöglicht präzise Prozessmessungen. NOVELLUS SABRE NEXT 300 ist eines der führenden Plasmaätzsysteme auf dem Markt, und seine fortschrittliche Ätzplattform sorgt für die Produktion streng kontrollierter Prozessergebnisse und wiederholbarer Profile. Dieser Reaktor bietet zuverlässige und genaue Strukturierungsfunktionen sowie einen verbesserten Durchsatz und eine reduzierte Prozesszeit und ist damit die perfekte Lösung für erweiterte Ätzanforderungen.
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