Gebraucht NOVELLUS Sabre Next #9281286 zu verkaufen

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Hersteller
NOVELLUS
Modell
Sabre Next
ID: 9281286
Wafergröße: 12"
Cobalt plating system, 12" Sabre excel II (3) Load ports Mylar sabre anneal: (3) FOUP Protocol zones: BEOL, MOL CIM: E84, SECS / GEM, GEM300, Interface A Options: Seed defect feature Waveform monitor Multiwave option Tunable EBR defector Dosing system with Nowpak LT Front and rear: (4) Colors CMS7500 / 7600 Ready kit SBU Ready kit Upgraded to 150A LPB CB Chamber / Station ID's: CELL1 CELL2 CELL3 HA1 HA2 HA3 HA4 HA5 HA6 PEM1 PEM2 PEM3 2015 vintage.
NOVELLUS Sabre Next ist ein ALD-Reaktor (Atomic Layer Deposition) der nächsten Generation, der verwendet wird, um eine oder mehrere Schichten ultradünner, konformer Filme auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Dies geschieht mit einer pulsierenden Gasquelle, um Spezies in die Reaktorkammer zu liefern, wo sie mit dem Substrat reagieren, was zur Abscheidung von Schichten im Nanometermaßstab führt. Der Abscheidevorgang ist stark wiederholbar, wodurch Folien erzeugt werden können, deren Dicke, Abdeckung und Zusammensetzung genau kontrolliert werden können. Sabre Next Reaktor kombiniert ALD-Technologie mit fortschrittlichen Computersystemen und effizientem Engineering, um eine Plattform zu schaffen, die hervorragende Filmeigenschaften und Wiederholbarkeit bietet. Es umfasst intuitive Bedienelemente der Benutzeroberfläche und automatisierte Materialhandhabung, um den Eingriff des Bedieners zu reduzieren und den Durchsatz zu erhöhen. Das Reaktorgehäuse besteht aus mehreren Teilen, darunter einer Hauptkammer, einer Gasfördereinrichtung mit mehreren Gasquellen und einem Substrathalter. Der Reaktor umfasst ferner eine Heizung, eine Kühleinheit, eine Vakuummaschine und ein Abgaswerkzeug. NOVELLUS Sabre Next Reaktor nutzt eine patentierte pulsierende Gasförderanlage, um die Abscheidung genau zu steuern. Dieses Modell besteht aus einer Reihe von magnetischen Komponenten, die ein Feld erzeugen, das bewirkt, dass sich die Reaktantenpulse in einem bestimmten, vorhersagbaren Muster bewegen. Dadurch ergibt sich eine gleichmäßige Filmabscheidung, die eine exakte und reproduzierbare Zusammensetzung ermöglicht. Sabre Next umfasst auch Funktionen wie eine automatisierte Materialhandhabung, Echtzeit-Prozessüberwachung, Mehrzonen-Sollwerte und außergewöhnliche Fehlertoleranz, die das Risiko von Prozessfehlern verringern und eine statistische Prozesskontrolle ermöglichen. Darüber hinaus kann das Verfahren auf einfache Weise für unterschiedliche Anwendungsanforderungen skaliert werden. Insgesamt ist NOVELLUS Sabre Next ein fortschrittlicher ALD-Reaktor der nächsten Generation, der eine wiederholbare, qualitativ hochwertige Abscheidung von einem oder mehreren Nanometerfilmen ermöglicht. Es eignet sich für eine Vielzahl von Substraten und Anwendungen, einschließlich fortschrittlicher Dünnschichtelektronik, Optik und chemischer Aufdampfung von Metallen.
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