Gebraucht NOVELLUS Sabre Next #9281286 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9281286
Wafergröße: 12"
Cobalt plating system, 12"
Sabre excel II
(3) Load ports
Mylar sabre anneal: (3) FOUP
Protocol zones: BEOL, MOL
CIM: E84, SECS / GEM, GEM300, Interface A
Options:
Seed defect feature
Waveform monitor
Multiwave option
Tunable EBR defector
Dosing system with Nowpak
LT Front and rear: (4) Colors
CMS7500 / 7600 Ready kit
SBU Ready kit
Upgraded to 150A LPB CB
Chamber / Station ID's:
CELL1
CELL2
CELL3
HA1
HA2
HA3
HA4
HA5
HA6
PEM1
PEM2
PEM3
2015 vintage.
NOVELLUS Sabre Next ist ein ALD-Reaktor (Atomic Layer Deposition) der nächsten Generation, der verwendet wird, um eine oder mehrere Schichten ultradünner, konformer Filme auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Dies geschieht mit einer pulsierenden Gasquelle, um Spezies in die Reaktorkammer zu liefern, wo sie mit dem Substrat reagieren, was zur Abscheidung von Schichten im Nanometermaßstab führt. Der Abscheidevorgang ist stark wiederholbar, wodurch Folien erzeugt werden können, deren Dicke, Abdeckung und Zusammensetzung genau kontrolliert werden können. Sabre Next Reaktor kombiniert ALD-Technologie mit fortschrittlichen Computersystemen und effizientem Engineering, um eine Plattform zu schaffen, die hervorragende Filmeigenschaften und Wiederholbarkeit bietet. Es umfasst intuitive Bedienelemente der Benutzeroberfläche und automatisierte Materialhandhabung, um den Eingriff des Bedieners zu reduzieren und den Durchsatz zu erhöhen. Das Reaktorgehäuse besteht aus mehreren Teilen, darunter einer Hauptkammer, einer Gasfördereinrichtung mit mehreren Gasquellen und einem Substrathalter. Der Reaktor umfasst ferner eine Heizung, eine Kühleinheit, eine Vakuummaschine und ein Abgaswerkzeug. NOVELLUS Sabre Next Reaktor nutzt eine patentierte pulsierende Gasförderanlage, um die Abscheidung genau zu steuern. Dieses Modell besteht aus einer Reihe von magnetischen Komponenten, die ein Feld erzeugen, das bewirkt, dass sich die Reaktantenpulse in einem bestimmten, vorhersagbaren Muster bewegen. Dadurch ergibt sich eine gleichmäßige Filmabscheidung, die eine exakte und reproduzierbare Zusammensetzung ermöglicht. Sabre Next umfasst auch Funktionen wie eine automatisierte Materialhandhabung, Echtzeit-Prozessüberwachung, Mehrzonen-Sollwerte und außergewöhnliche Fehlertoleranz, die das Risiko von Prozessfehlern verringern und eine statistische Prozesskontrolle ermöglichen. Darüber hinaus kann das Verfahren auf einfache Weise für unterschiedliche Anwendungsanforderungen skaliert werden. Insgesamt ist NOVELLUS Sabre Next ein fortschrittlicher ALD-Reaktor der nächsten Generation, der eine wiederholbare, qualitativ hochwertige Abscheidung von einem oder mehreren Nanometerfilmen ermöglicht. Es eignet sich für eine Vielzahl von Substraten und Anwendungen, einschließlich fortschrittlicher Dünnschichtelektronik, Optik und chemischer Aufdampfung von Metallen.
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