Gebraucht NOVELLUS Sabre XT #9058226 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9058226
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
ECD Plater, 8"
Model #: C2-Sabre
Integrated frame
With (3) plating modules
Phase 3 anode chamber
8" Clamshell drive unit
196 mm Clamshell cup and cone (Phase 1A ceramic cup)
Pulse plating capability
AE Pulse power supply
(3) Additive dosing systems with nowpak
Bath chemistry control algorithm
Central bath reservoir (150 L)
(3) Post-Electrofill modules
Edge bead removal (EBR)
(5) Chambers anneal capability
50-400 C, H2/Forming gas
BROOKS (4) Axes atmospheric dual-end effector robot
BROOKS Accutran front-end robot
Main power panel
Secondary containment
With splash guards and leak detection
Dual waste stream plumbing
Pentium-based CPU
Graphical user interface (GUI)
SECS/GEM compatibility
Currently crated
1999 vintage.
NOVELLUS Sabre XT ist ein CVD-Reaktor für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es verwendet ein plattenbasiertes Design in Verbindung mit dem proprietären Enhanced CVD (ECVD) -Verfahren, um eine hohe Gleichmäßigkeit und Durchsatz der Zielfolien zu erreichen. Das optimierte Plattendesign von NOVELLUS SABREXT besteht aus zwei gegenüberliegenden VTEC Thermokühlern, die eine optimale Leistungs- und Temperaturregelung in einem engen Zielbereich ermöglichen. Die Platte ist auch mit einem korrosionsbeständigen Material abgedeckt, das ihre inneren Komponenten während des Betriebs schützt. Das ECVD-Verfahren von Sabre XT arbeitet in einer Einkammer-Vakuumumgebung bei Temperaturen zwischen 100 ° C und 400 ° C. Während des Betriebs injiziert das System Reaktanden wie Silangas und Ammoniak in die Reaktorkammer, zusammen mit reaktiven Gasvorläufern, die durch einen rotierenden Brenner gelangen, der die einströmenden Gasgemische exakt abgibt. Dieser rotierende Brenner ermöglicht eine hochpräzise Folienabscheidungsgleichförmigkeit innerhalb der Kammer, wo Zieldicke und Gleichmäßigkeit durch eine Reihe von optischen Überwachungssystemen gesammelt werden. SABREXT integriert auch mehrere erweiterte Prozessüberwachungsfunktionen, einschließlich eines kontinuierlichen Rückkopplungssystems, das es ermöglicht, den Durchfluss und die Mischung der Reaktantgase genau zu steuern. Dies gibt NOVELLUS Sabre XT die Möglichkeit, die Einstellungen automatisch einzustellen, um eine gleichmäßigere Abscheidung der Zielfolien zu erreichen und es ihm zu ermöglichen, mögliche Kontaminationen innerhalb der Reaktorumgebung zu überwachen. Die Vielseitigkeit und Zuverlässigkeit von NOVELLUS SABREXT macht es zu einer führenden Wahl für Anwendungen in der Halbleiterherstellung, die eine hohe Serienproduktion mit zuverlässiger Prozess- und Filmgleichförmigkeit erfordern. Der Festkörperbetrieb gewährleistet eine wartungsarme und kostengünstige Lösung für die Herstellung moderner Chipsätze und anderer Halbleiterprodukte. Darüber hinaus ist Sabre XT mit seinem korrosionsbeständigen Plattendesign und seiner einfachen Integration in eine Vielzahl von CVD-Systemen eine ideale Wahl für führende Chiphersteller weltweit.
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