Gebraucht NOVELLUS Sequel Express #9313087 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9313087
System
P166/64M Controller
Signal tower: Front mount type
LCD Monitor, 12.1"
DLCM:
Module
P166/64M Module controller
Cassette transfer: Shuttle type
BROOKS AUTOMATION Magnatran 7 TM Robot, P/N: 003-1600-25
Indexer robot: Motor
CDP2407-2 Animatics
26 Slots arc bar
Auto cassette mapping
MKS 750B11TCE2GK Manometer, 10 Torr
GRANVILLE PHILLIPS 275 Mini convectron
TYLAN ACX 3200 Throttle valve controller
Slit valve type: L/L VAT/CH
(3) 27-10157-00 IO Controllers
CVD 1:
Module
ADVANCED ENERGY 3150274-004 B SE RF Match network
View port left / Right
RF Distribution
Gas distribution
No heat mix bowl
(6) Shower heads
Process chamber ring
MESC Flange
MKS 627A13TBC Manometer, 1000 torr
MKS 627A11TBC Manometer, 10 torr
UE PV48W-14 Vacuum switch, atmosphere
UE E48W-H14 Vacuum switch, 15 torr
VM3200 End point detector, integrated dual wavelength EPD
(3) Digital dynamic 27-10157-00 IO controllers
Throttle valve controller
02-123072-00 Rev A interlock PCB, CVD
P166/64M Module controller
Water flow switch
Gate valve, Hi Vac, 4"
Throttle valve
Spindle mechanism: Ferrofluidic - Bellows type
Process chamber: Vertical 4-line type
Exhaust type: Vertical process chamber
EUROTHERM Temperature controller
Hastings gauge
ADVANCED ENERGY PDX 1400 MF GEN RF Generator, P/N: 27-115617-00 F/R A
ADVANCED ENERGY RFG 5500 Generator rack, P/N: 27-028379-00 F/R C
MFC (AERA):
FC-7800CD, 1SLM, SiH4
FC-7800CD, 5SLM, N2
FC-7800CD, 10SLM, He
FC-7800CD, 10SLM, NH3
FC-7800CD, 20SLM, O2
FC-7800CD, 5SLM, O2F6
FC-7800CD, 20SLM, N2O
FC-7800CD, 10SLM, N2
CVD2:
ADVANCED ENERGY 3150274-004 B SE RF Match network:
View port left / Right
RF Distribution
Gas Distribution
Mix bowl: Temperature setting type
(6) Shower heads
Heater block
Process chamber ring
MESC Flange
MKS 627A13TBC Manometer, 1000 torr
MKS 627A11TBC Manometer, 10 torr
UE PV48W-14 Switch, vacuum, atmosphere
UE E48W-H14 Switch, vacuum, 15 torr
VM3200 End point detector integrated dual wavelength EPD
(3) IOC 27-10157-00 / Ver4.1
Controller, throttle valve
Interlock PCB, CVD Rev A 02-123072-00
P166 / 64M Module controller
Water flow switch
Gate valve, Hi Vac, 4"
Throttle valve
Spindle mechanism: Ferrofluidic - Bellows type
Process chamber: Vertical 4-line type
Exhaust type: Vertical process chamber
EUROTHERM Temperature controller
Hastings gauge
ADVANCED ENERGY PDX 1400 MF GEN RF Generator, P/N: 27-115617-00 F/R A
ADVANCED ENERGY RFG 5500 Generator rack, P/N: 27-028379-00 F/R C
MFC (AERA):
FC-7800CD, 1SLM, SiH4
FC-7800CD, 5SLM, N2
FC-7800CD, 10SLM, He
FC-7800CD, 10SLM, NH3
FC-7800CD, 20SLM, O2
FC-7800CD, 5SLM, C2F6
FC-7800CD, 20SLM, N2O
FC-7800CD, 10SLM, N2
SSD:
MSSD 01-132945-00, MSSD included UPS
AC 208V, 3-Phase, 5-Wires, 50 Hz, 1000 kVA
AC 208V (CVCF) Single phase, UPS 50 Hz, 20 Amps.
NOVELLUS Sequel Express ist ein Reaktor zur Verarbeitung von Nanopartikeln für Halbleiter- und Werkstoffanwendungen. Sequel Express-Geräte verwenden eine einzigartige horizontale Plasmaquellenkonfiguration mit vertikalen Substratstützen, um eine präzise, saubere Umgebung für die Herstellung fortschrittlicher Materialien zu schaffen. Das System ist mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, um hohe Leistung und Konsistenz zu gewährleisten, einschließlich einer UV-fähigen Plasmaquelle, einem patentierten Gasinjektor für präzise Gasaddition und einem Hochleistungselektromagneten für eine einheitliche Magnetfeldsteuerung. Der NOVELLUS Sequel Express Reaktor verfügt über ein einzigartiges horizontales Plasmaquellendesign, das eine Plasmafront von der Oberseite des Reaktors zum Gasinjektor hin erzeugt. Die UV-fähige Plasmaquelle weist eine kurze Wellenlänge von weniger als 119 nm auf, was zur Herstellung extrem kleiner Partikel aus den Reaktanden beiträgt. Das Plasmavolumen wird mit einem konstanten Magnetfeld gehalten, das vom Hochleistungselektromagneten bereitgestellt wird. Darüber hinaus ermöglicht der Gasinjektor eine präzise Zerstäubung von Hochdruckgas wie O2 und N2 bei der Synthese unterschiedlichster Materialien. Sequel Express verfügt auch über eine Reihe von Steuerelementen, die es dem Benutzer ermöglichen, den Reaktor und seine Prozesse genau zu programmieren und zu pflegen. Es enthält ein digitales Netzteil, eine programmierbare Gate-Referenzspannung und eine programmierbare Benutzeroberfläche. Die Benutzeroberfläche ermöglicht die manuelle und automatische Steuerung von Reaktor, Gasfluss, Drücken und Temperaturen. Darüber hinaus bietet das Gerät eine fortschrittliche Überwachung von Prozessparametern wie Gasdurchflussrate, Plasmaüberwachung, Temperatur, Druck und das Vorhandensein von minutenlangen Verunreinigungen. Anhand dieser Informationen kann der Anwender die besten Parameter für eine bestimmte Art der Nanopartikelsynthese ermitteln. NOVELLUS Sequel Express ist eine sichere und zuverlässige Maschine, die für den Einsatz in Industrielaboren konzipiert ist. Es ist einfach zu bedienen und erfordert eine minimale Wartung. Darüber hinaus ist das Werkzeug leicht zu reinigen und bietet überlegene Partikelsammelfunktionen. Die fortschrittlichen Funktionen und das effiziente Design machen Sequel Express zur idealen Wahl für die Herstellung von Halbleitern und Materialien.
Es liegen noch keine Bewertungen vor