Gebraucht NOVELLUS Speed #9218973 zu verkaufen

NOVELLUS Speed
Reaktoren
Hersteller
NOVELLUS
Modell
Speed
ID: 9218973
System (2) Chambers System configuration: Mainframe: NOVELLUS C2 DLCM-S Pet, 8" CRT Monitor Local control: Module controller Communication network: ARCnet LAN Chamber A & B Position: NOVELLUS C2 SPEED-S Process module Transfer module: DLCM-S PET Fab interface: Standard GEM Interface Host interface: SECS DLCM PET Interface type: Tool controlled PET Dual-Load lock Cassette Module (DLCM): Loadlock chamber: Type: Shrink body integrated with PET Loadlock assy: Left & Right Left loadlock: IOC #2 Right loadlock: IOC #3 Cassette present sensor Auto rotation Loadlock slit valve o-ring type: Viton Indexer controller: CE T2 Indexer robot Gauge: 275 mini convectron Gas: Nitrogen Transfer chamber sensor PEC Station No wafer out of cassette detector Integrated cassette sensor Transfer chamber: MKS Baratron Loadlock Robot: BROOKS Mag 7 Robot blade: CERAMIC / Metal Robot arm type: (2) BROOKS Arm robots Load lock door: Open / Close sensor indicator Wafer on blade detector N2 Vent purge valve He purge MFC Type: BROOKS Throttle valve: MKS Dedicated transfer turbo pump: PFEIFFER TMH 260 DLCM Inert gas lines: N2 Supply CDA Supply He supply SPEED Chamber A & B Configuration: Type: NOVELLUS C2 SPEED-S Process module Frequency type: Dual HF + LF ADVANCED ENERGY RFG 5500 High frequency RF generator ADVANCED ENERGY PDX 5000 Low frequency RF generator Top match: TRAZAR SRN 1-2 Pedestal RF Match: TRAZAR AMU1OE-2 27-118072-00 Dome type: Standard/G10 Pressure switch sensor: VACUUM Switch PV48W-84 Gate valve: VAT Module controller system: MC1 / MC3 MFC Type: BROOKS Gas feed: Multi-line drop Gas 1 MFC 1: Ar 500sccm Gas 2 MFC 2: O2 500sccm Gas 3 MFC 3: NF3 1000sccm Gas 4 MFC 4: SiH4 200sccm Gas 5 MFC 6: SIF4 200sccm Gas 6 MFC 8: H2 2000sccm Gas 7 UPC1: H2 2000sccm Gas line in connect fitting: VCR Nickel coated ESC Type: Duratek-IC 8", semi Temperature probes and controller: NTM 500 C / 500 D Turbo pump type: MAG W 2200 Manometer type 10 torr: MKS Manometer type 100m toor: MKS Throttle valve: MKS Type Endpoint detector: VERITY SD2048DL Clean method: Toggle clean Clean gas: NF3 SPEED USG Process kit: CERAMIC Guard ring CERAMIC Process injector tube: 4.13'' Nozzle CERAMIC Clean injector tube: NOVELLUS CERAMIC Lift pin: NOVELLUS Turbo pump screen: Normal screen Pedestal height: 1.75'' SPEED FSG Process Kit CERAMIC Guard ring CERAMIC Process injector tube: 2.5'' Nozzle CERAMIC Clean injector tube: NOVELLUS CERAMIC Lift pin: NOVELLUS Turbo pump screen: Louver screen Pedestal height: 2.75" PEC Type: E-PEC Plate SPEED Calibration unit and jig: Black body calibration: CI SR40 / SR72 NOVELLUS OEM Dome jig NOVELLUS OEM Turbo jump jig Facilities: SSD: NOVELLUS OEM Power supply: 3 Phase, 208V UPS.
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NOVELLUS Speed ist ein PECVD-Reaktor, der eine hervorragende Prozessleistung für Halbleiteranwendungen bietet. Vestec, heute Teil der Unternehmensfamilie Lam Research, konzipierte diese innovative Prozesskammer ursprünglich 1985. Der Name für die Kammer zeigt Geschwindigkeit des Prozesses aufgrund seiner einzigartigen Design. Dies geht einher mit der Fähigkeit, höchste Anforderungen an Dünnschichtverarbeitungsanwendungen zu erfüllen. Der Reaktor ist speziell auf die gestrafften Anforderungen der modernen Halbleiterverarbeitungstechnik ausgelegt. Die NOVELLUS Speed-Kammer ist als Hochleistungs-Rechteckrahmen aus Aluminium ausgeführt. Es enthält einen großen einteiligen Low-Thermal-Mass-Suszeptor, der die Gleichmäßigkeit über die gesamte zu behandelnde Oberfläche erhöht. Innerhalb der Suszeptorkammer befindet sich eine Gaskrümmereinrichtung mit bis zu vier verschiedenen Gasströmen, die gleichmäßig über die Reaktorkammer verteilt werden sollen. Hierdurch wird sichergestellt, dass die Prozessgase äußerst gleichmäßig dem Substrat zugeführt werden. Zur Überwachung und Steuerung der Prozessgase innerhalb der Kammer ist ein Echtzeit-Gasmanagementsystem integriert, das die Strömungen überwachen und bei Bedarf einstellen kann. Die Geschwindigkeit ist auch mit einer erweiterten HF-Auslieferungseinheit ausgestattet, die innerhalb der Spezifikationen der Prozesskammer bleibt. Dies bietet Robustheit für den Prozess sowie eine präzise Leistungsverteilungsregelung. Darüber hinaus enthält der Reaktor eine gut platzierte Hexodenmaschine, die bei Bedarf zusätzliche Leistung bereitstellt und wiederum eine Präzisionsregelung hinsichtlich der in die Kammer eingespeisten Leistung ermöglicht. Ein Foliendickenmonitor gibt Rückmeldung über die genaue Dicke der auf die Substrate aufgebrachten Folie innerhalb von +/- 10 Winkeln der Genauigkeit. Der Monitor hilft auch dabei, eventuell aufgetretene Durchgänge im Film zu erkennen, so dass diese sofort adressiert werden können. Ein weiteres Werkzeug beteiligt, NOVELLUS HotTech-Prozess, ist entworfen, um die Nutzungsdauer der Kammerkomponenten zu erhöhen, wie der Suszeptor, HF-Platte, Heizplatte, und so weiter. Insgesamt betrachtet ist NOVELLUS Speed ein zuverlässiger und leistungsfähiger PECVD-Reaktor. Seine Hochleistungskonstruktion und seine fortschrittlichen Eigenschaften geben ihm die Fähigkeit, konstant hochwertige Dünnschichtarchitekturen mit Präzision und Wiederholbarkeit zu produzieren, was ihm einen Vorteil im Bereich der Halbleiterverarbeitungstechnologie verschafft.
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