Gebraucht OERLIKON / LEYBOLD KAI 1200 #293665785 zu verkaufen

OERLIKON / LEYBOLD KAI 1200
ID: 293665785
System.
OERLIKON/LEYBOLD KAI 1200 ist ein CVD-Reaktor, der für maximale Flexibilität und Prozesskontrolle ausgelegt ist. Diese moderne Reaktorausrüstung ist in der Lage, feinteilige Folien mit Gleichmäßigkeit, hoher Gleichmäßigkeit und höchster Qualität auf einer Vielzahl von Substratmaterialien abzuscheiden. LEYBOLD KAI 1200 ist ideal für Anwendungen, die eine einheitliche Folienabscheidung im Bereich von 200Å bis 400Å erfordern. OERLIKON KAI 1200 basiert auf einem Tieftemperatur-Kaltwandkammerdesign, das Verschmutzungen minimiert und ultraschnelle Abkühlzeiten ermöglicht. Das System verfügt über ein optimiertes Reaktionstor-Design, einen stufenlos einstellbaren Reaktionsfluss und einen Temperaturbereich von -50C ° bis 1600 ° C. Das Netzteil ist mit einer Vielzahl von Stromquellen ausgestattet, darunter DC, gepulste Gleichstrom- und HF-Stromquellen, die eine präzise Steuerung thermischer Prozesse ermöglichen. Das fortschrittliche konstruktive Design von KAI 1200 ermöglicht eine gleichmäßige Filmabscheidung über große Substratflächen. Eine automatische Substrataustauschfunktion, gepaart mit den extrem kurzen Abkühlzeiten, ermöglicht ein schnelles und zuverlässiges Umschalten zwischen verschiedenen Substraten. Die Maschine ist außerdem mit einem unabhängigen Abgaswerkzeug und einer Gasströmungssteuerung für jede Prozesskammer ausgelegt, um eine saubere und optimale Prozessumgebung zu gewährleisten. OERLIKON/LEYBOLD KAI 1200 ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Es umfasst ein umfassendes Display-Asset mit einem Touch-Panel, das über eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) bedient wird. Darüber hinaus verfügt es über eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen, von der Vakuumverlusterkennung bis zum Überspannungsschutz. Darüber hinaus ist das Modell über eine computergesteuerte Steuerung programmierbar, die wiederholbare Prozessparameter und Leistung ermöglicht. Abschließend ist LEYBOLD KAI 1200 ein fortschrittlicher Hochtemperatur-CVD-Reaktor, der für maximale Prozesskontrolle und gleichmäßige Filmabscheidung ausgelegt ist. Seine niedrige Temperatur kalte Wandkammer Design, optimierte Reaktionstor Design, Temperaturbereiche, und umfassende Display-Ausrüstung ermöglichen maximale Prozesseffizienz. Das System umfasst auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, eine programmierbare Steuerung und eine automatische Substrataustauschfunktion für eine einfache Substratverarbeitung.
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