Gebraucht OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200 #293818863 zu verkaufen

OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200
ID: 293818863
Chemical Vapor Deposition (CVD) Systems.
OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200 ist ein hochmoderner Plasmaätz- und Abscheidungsreaktor, der für fortschrittliche Anwendungen in der Halbleiterherstellung und Materialforschung entwickelt wurde. Dieses Hochleistungsgerät verfügt über einen vielseitigen RF-Plasmagenerator mit zwei Quellen, der eine breite Palette von Plasmaprozessen wie Ätzen, Abscheiden und Oberflächenbehandlung ermöglicht. PlasmaPro 200 ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen, Universitäten und Industrielabore, die eine präzise Kontrolle der Plasmabearbeitungsparameter erfordern. OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200 ist mit einer kompakten und benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet, die dem Bediener einen einfachen Zugang zu Prozessrezepten, Datenerfassung und Systemdiagnose bietet. Die Reaktorkammer ist aus hochwertigen Materialien aufgebaut, um eine kontaminationsfreie Verarbeitung und maximale Waferausbeute zu gewährleisten. Das Gerät kann verschiedene Wafergrößen bis 200 mm aufnehmen und eignet sich somit für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterbauelementfertigung, Mikroelektronik und Nanotechnologie. Eines der Hauptmerkmale von PlasmaPro 200 ist sein Dual-Source-HF-Plasmagenerator, der eine unabhängige Kontrolle der Plasmadichte und -energie ermöglicht. Dies ermöglicht eine präzise Abstimmung der Plasmaeigenschaften zur Optimierung von Ätz- und Abscheidungsprozessen für bestimmte Materialien und Gerätestrukturen. Die Maschine ist in der Lage, hochdichte Plasmen mit niedrigen Elektronentemperaturen zu erzeugen, was zu gleichmäßigen und stark anisotropen Ätzprofilen mit minimaler Schädigung der darunter liegenden Schichten führt. OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200 bietet eine breite Palette von Gasfördermöglichkeiten, einschließlich Massenstromregler zur präzisen Steuerung von Gasmengen und -gemischen. Dies ermöglicht den Einsatz verschiedener Prozessgase wie Sauerstoff, Fluor und Stickstoff zum Ätzen und Abscheiden verschiedener Materialien wie Silizium, Siliziumdioxid, III-V-Verbindungen und Metalle. Das Werkzeug verfügt auch über eine eingebaute Turbopumpe für schnelle Kammerabfuhr und präzise Druckregelung während der Bearbeitung. Die Reaktorkammer des PlasmaPro 200 ist für eine effiziente Gasverteilung und eine gleichmäßige Plasmabeschränkung ausgelegt und gewährleistet konsistente Verarbeitungsergebnisse über die gesamte Waferoberfläche. Die Kammer ist mit einer Reihe von optionalen Funktionen wie In-situ-Endpunktdetektion, optische Emissionsspektroskopie und Temperaturregelung ausgestattet, um die Prozesssteuerung und -überwachung weiter zu verbessern. Das Asset ist kompatibel mit fortschrittlicher Prozesssteuerungssoftware zur Echtzeitoptimierung von Prozessparametern und schneller Rezepturentwicklung. Abschließend ist OXFORD INSTRUMENTS PlasmaPro 200 ein vielseitiges und zuverlässiges Plasmabearbeitungswerkzeug, das für Spitzenforschung und Entwicklung in den Bereichen Halbleitertechnik und Materialwissenschaft entwickelt wurde. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und der benutzerfreundlichen Oberfläche bietet PlasmaPro 200 Forschern und Ingenieuren eine leistungsstarke Plattform, um neue Plasmaprozesse zu erkunden und innovative Gerätestrukturen mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit zu entwickeln.
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