Gebraucht PICOSUN P300 #293628601 zu verkaufen

PICOSUN P300
Hersteller
PICOSUN
Modell
P300
ID: 293628601
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor.
PICOSUN P300 ist ein fortschrittlicher reaktiver Ionenätzreaktor, der für tiefe Submikronverarbeitungsanwendungen entwickelt wurde. Sie eignet sich insbesondere zur Herstellung von Halbleiterbauelementen einschließlich Feldeffekttransistoren, integrierten Schaltungen und MEMS. P300 basiert auf der gleichen Technologie, die in PICOSUN industriellen RIE-Systemen verwendet wird, wodurch eine hohe Qualität der Leistung, ein zuverlässiger Betrieb und eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit der Prozesse gewährleistet sind. Der Reaktor basiert auf einer Plasmaquelle mit getriebener Kammer, die auch bei anspruchsvollen Ätzanwendungen eine hervorragende Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. PICOSUN P300 verfügt über eine mehrkanalige Gasinjektionsanlage mit Gasmisch-, Blasen- und Pulseinspritzmöglichkeiten. Darüber hinaus verfügt es über eine der größten Standardkammergrößen eines beliebigen RIE-Systems seiner Klasse mit bis zu 500 x 400 x 200 mm. Die automatisierte Turbopumpeinheit von P300 gewährleistet eine kompromisslose Prozesskammerleistung, die extrem niedrige Basisdrücke und eine schnelle Konditionierung ermöglicht. Für eine vielseitige Prozesssteuerung verfügt PICOSUN P300 über eine anspruchsvolle CAD-Workstation und intuitive Software. Die CAD-Workstation ermöglicht es Benutzern, Ätzrezepte zu plotten und Prozessabstimmungen schnell durchzuführen. Software von Drittanbietern kann einfach integriert werden, um Steuerungsoptionen zu erweitern, und das benutzerfreundliche Touchpanel des Reaktors vereinfacht die Bedienung und bietet eine vollständige Rückverfolgbarkeit aller vor- und nachgelagerten Prozessschritte. P300 eignet sich hervorragend für die Herstellung von 3D und 2.5D Strukturen. Es verfügt über hochmoderne Elektronenzyklotronresonanz (ECR) und induktiv gekoppelte Plasmaquellen (ICP), die es Anwendern ermöglichen, die Ätztiefe und Selektivität genau zu steuern. Die hochenergetische Plasmabearbeitung von dielektrischen und metallischen Schichten kann durch Hinzufügen einer zusätzlichen N2- oder O2-Quelle erreicht werden, wodurch die Fähigkeiten des Werkzeugs effektiv verdoppelt werden. Die robuste Konstruktion und das patentierte Design von PICOSUN P300 sorgen für überlegene Leistung und zuverlässig genaue Prozesse. Es verfügt über überlegene Kühlfunktionen, um konsistente und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten, und seine automatisierten Sicherheitsfunktionen schützen sowohl Benutzer als auch die Prozesskammer vor möglichen Schäden oder Fehlfunktionen. Darüber hinaus bietet PICOSUN auch After-Sales-Services wie Wartung und Upgrades an, so dass Benutzer ihre Systeme auf dem neuesten Stand halten können, ohne dass ein vollständiger Austausch von Vermögenswerten erforderlich ist. Dadurch wird sichergestellt, dass Anwender stets mit den neuesten technologischen Fortschritten arbeiten und so die effizientesten und effektivsten Verarbeitungslösungen ermöglichen. Insgesamt ist P300 eine ideale Wahl für jede Submikron-Ätzanwendung. Seine fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen und revolutionäre Technologie garantieren überlegene Leistung, Prozessgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit, während seine robuste Konstruktion und anpassbare Software es zu einer idealen Wahl für Profis in der Halbleiterindustrie machen.
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