Gebraucht PICOSUN R-200 #293618159 zu verkaufen

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Hersteller
PICOSUN
Modell
R-200
ID: 293618159
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor Vacuum chamber: Stainless steel vessel with KF connection flanges (2) RC-200 Reaction chambers: 6-Inlets SH-200 Sample holder Substrate holder, 8" PicoPlasma Inductively coupled remote plasma source Heated sample stage: Up to 750°C Mesh cradle MC200 for 3D samples Trough porous sample holder Controller Touch panel PC Deposition: Oxide (SiO2, Al2O3 and TiO2) Precursor sources: (3) Picosolutions (2) Boosted Picohot 200: Heated source up to 200°C Boosted Picohot 300: Heated source up to 300°C (2) Picogas connections for thermal ALD (2) Picogas connections for PEALD with Ar carrier gas O3 System: PZ-100 Picozone PF-200 Diffusion enhancer Chemical precursors: Type / Element / Chemical Picosolution / Al / Trimethylaluminium electronic grade Picohot200 / Ba / Bis (1,2,4-Tritertiarybutylcyclopentadienyl) Barium Picohot 200 / Ba / Bis (Tri-isopropylbutylcyclopentadienyl) Barium THD Picohot200 / Ru / ⁿ4-2,3-Dimethylbutadiene ruthenium tricarbonyl Picohot200 / Si / Bis (Diethylamido) Silane Picohot300 / Si / Bis (Diethylamido) Silane Picosolution / Ti / Titanium (IV) Chloride Picohot 200 / Ti / Titanium isopropoxide Picohot200 / Ti / Titanium methoxide Substrate loading: Picoloader Slit gate valve, 8" Load lock Manipulator N2 Purge assy for load lock purge Vacuum pump: EBARA ESA70WD Dry vacuum pump Flow rate: 420 m³/h 2-Stages pneumatic valve Afterburner and mechanical foreline particle traps Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase, 6 kW.
PICOSUN™ PICOSUN R-200 ist eine fortschrittliche ALD (Atomic Layer Deposition) -Verarbeitungsanlage, die für Anwendungen im industriellen Produktionsmaßstab mit hoher Gleichmäßigkeit und hoher Durchsatzoberflächenbeschichtung entwickelt wurde. Dieses System wurde entwickelt, um den hohen Qualitätsanforderungen von Industrie- und Forschungsanwendungen wie reflektierenden Oberflächen, konformen Oberflächen, optischen Beschichtungen und dünnen Schichten für verschiedene Anwendungen gerecht zu werden. PICOSUN™ PICOSUN R 200 Reaktor basiert auf einer modularen Architektur, die Flexibilität und Skalierbarkeit ermöglicht, die es dem Benutzer ermöglicht, das Gerät an seine spezifischen Anwendungsanforderungen anzupassen. Die Maschine kann mit einer breiten Palette von Standardkomponenten ausgestattet und umprogrammiert werden, um einzigartige Kundenanforderungen zu erfüllen. Die Hauptkomponenten R-200 Reaktors sind Generator, Reaktionspartner, Reaktionskammer, Substrathalter und Auspuff. Der Generator versorgt den Reaktionsraum mit reaktiven Gasen in genauen Mengen, wodurch eine hohe Wiederholbarkeit während der Beschichtung gewährleistet ist. Ein Vakuum-Auspuffwerkzeug entfernt Reaktions-Nebenprodukte nach jedem Zyklus, was schnelle Prozesszeiten und zuverlässige Ergebnisse ermöglicht. R 200 Reaktor verfügt über ein kompaktes und wartungsfreies Design, das einfach zu installieren ist und eine minimale Wartung erfordert. Die Reaktionskammer und der Substrathalter sind aus hochwertigem Edelstahl gefertigt und sollen Sauberkeit und Haltbarkeit gewährleisten. PICOSUN™ PICOSUN R-200 Reaktor ist für eine größere Produktion ausgelegt und kann Substrate von Größen bis zu 200mm und 1000 x 1500mm beschichten. Es bietet hohe Durchsatzmöglichkeiten bei maximaler Kammerbelastung bis zu 80% und ALD-Zykluszeiten bis zu 59 Sekunden. Es bietet ein hohes gleichmäßiges Filmwachstum mit einer Kammergleichförmigkeit von weniger als ± 2% und einer Dickengleichförmigkeit von ± 1 nm. PICOSUN R 200 Reaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Filmen aus Keramik, Metalle, komplexe Oxide, Nitride und Germanide zu handhaben. Es bietet schnelles, zuverlässiges und reproduzierbares Folienwachstum für eine hoch anspruchsvolle Beschichtungsindustrie. Die Anlage eignet sich für verschiedene Forschungs- und Industrieanwendungen und bietet überlegene Folienqualität, Wiederholbarkeit und Leistung für alle Oberflächenbeschichtungsanwendungen.
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