Gebraucht PICOSUN R-200 #293618159 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293618159
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor
Vacuum chamber: Stainless steel vessel with KF connection flanges
(2) RC-200 Reaction chambers: 6-Inlets
SH-200 Sample holder
Substrate holder, 8"
PicoPlasma Inductively coupled remote plasma source
Heated sample stage: Up to 750°C
Mesh cradle MC200 for 3D samples
Trough porous sample holder
Controller
Touch panel PC
Deposition: Oxide (SiO2, Al2O3 and TiO2)
Precursor sources:
(3) Picosolutions
(2) Boosted Picohot 200: Heated source up to 200°C
Boosted Picohot 300: Heated source up to 300°C
(2) Picogas connections for thermal ALD
(2) Picogas connections for PEALD with Ar carrier gas
O3 System: PZ-100 Picozone
PF-200 Diffusion enhancer
Chemical precursors:
Type / Element / Chemical
Picosolution / Al / Trimethylaluminium electronic grade
Picohot200 / Ba / Bis (1,2,4-Tritertiarybutylcyclopentadienyl) Barium
Picohot 200 / Ba / Bis (Tri-isopropylbutylcyclopentadienyl) Barium THD
Picohot200 / Ru / ⁿ4-2,3-Dimethylbutadiene ruthenium tricarbonyl
Picohot200 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picohot300 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picosolution / Ti / Titanium (IV) Chloride
Picohot 200 / Ti / Titanium isopropoxide
Picohot200 / Ti / Titanium methoxide
Substrate loading:
Picoloader
Slit gate valve, 8"
Load lock
Manipulator
N2 Purge assy for load lock purge
Vacuum pump:
EBARA ESA70WD Dry vacuum pump
Flow rate: 420 m³/h
2-Stages pneumatic valve
Afterburner and mechanical foreline particle traps
Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase, 6 kW.
PICOSUN™ PICOSUN R-200 ist eine fortschrittliche ALD (Atomic Layer Deposition) -Verarbeitungsanlage, die für Anwendungen im industriellen Produktionsmaßstab mit hoher Gleichmäßigkeit und hoher Durchsatzoberflächenbeschichtung entwickelt wurde. Dieses System wurde entwickelt, um den hohen Qualitätsanforderungen von Industrie- und Forschungsanwendungen wie reflektierenden Oberflächen, konformen Oberflächen, optischen Beschichtungen und dünnen Schichten für verschiedene Anwendungen gerecht zu werden. PICOSUN™ PICOSUN R 200 Reaktor basiert auf einer modularen Architektur, die Flexibilität und Skalierbarkeit ermöglicht, die es dem Benutzer ermöglicht, das Gerät an seine spezifischen Anwendungsanforderungen anzupassen. Die Maschine kann mit einer breiten Palette von Standardkomponenten ausgestattet und umprogrammiert werden, um einzigartige Kundenanforderungen zu erfüllen. Die Hauptkomponenten R-200 Reaktors sind Generator, Reaktionspartner, Reaktionskammer, Substrathalter und Auspuff. Der Generator versorgt den Reaktionsraum mit reaktiven Gasen in genauen Mengen, wodurch eine hohe Wiederholbarkeit während der Beschichtung gewährleistet ist. Ein Vakuum-Auspuffwerkzeug entfernt Reaktions-Nebenprodukte nach jedem Zyklus, was schnelle Prozesszeiten und zuverlässige Ergebnisse ermöglicht. R 200 Reaktor verfügt über ein kompaktes und wartungsfreies Design, das einfach zu installieren ist und eine minimale Wartung erfordert. Die Reaktionskammer und der Substrathalter sind aus hochwertigem Edelstahl gefertigt und sollen Sauberkeit und Haltbarkeit gewährleisten. PICOSUN™ PICOSUN R-200 Reaktor ist für eine größere Produktion ausgelegt und kann Substrate von Größen bis zu 200mm und 1000 x 1500mm beschichten. Es bietet hohe Durchsatzmöglichkeiten bei maximaler Kammerbelastung bis zu 80% und ALD-Zykluszeiten bis zu 59 Sekunden. Es bietet ein hohes gleichmäßiges Filmwachstum mit einer Kammergleichförmigkeit von weniger als ± 2% und einer Dickengleichförmigkeit von ± 1 nm. PICOSUN R 200 Reaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Filmen aus Keramik, Metalle, komplexe Oxide, Nitride und Germanide zu handhaben. Es bietet schnelles, zuverlässiges und reproduzierbares Folienwachstum für eine hoch anspruchsvolle Beschichtungsindustrie. Die Anlage eignet sich für verschiedene Forschungs- und Industrieanwendungen und bietet überlegene Folienqualität, Wiederholbarkeit und Leistung für alle Oberflächenbeschichtungsanwendungen.
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