Gebraucht PICOSUN R-200 #9283497 zu verkaufen

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Hersteller
PICOSUN
Modell
R-200
ID: 9283497
System With Manual loadlock Does not include plasma Precursors: (6) Lines R.T. X 3 Precursor with heating units: (2) PH200 PH300.
PICOSUN R-200 ist ein fortschrittlicher, modularer und benutzerfreundlicher Atomic Layer Deposition (ALD) Reaktor. Es ist für die industrielle Produktion von dünnen Schichten aus verschiedenen Materialien, wie Materialien mit Nanostrukturen und verschiedenen Oxidmaterialien, ausgelegt. PICOSUN R 200 ist modular aufgebaut, so dass beliebig viele Prozessmodule verwendet werden können, um bestimmte Prozessmodule mit geringem Platzbedarf zu erstellen. R-200 enthält auch eine Heiz-/Kühleinrichtung mit Temperatur bis 1000 Grad Celsius Flexibilität. R 200 ist ein CVD-System (Closed Chamber Chemical Vapor Deposition), das zur großflächigen Abscheidung dünner, einheitlicher Filme aus verschiedenen Materialien entwickelt wurde. Die Kammer ist aus einem inerten, nichtleitenden keramischen Material ausgebildet. Im Inneren ermöglichen ein Gaseinlass und ein Gasauslass eine einfache Kompatibilität mit kundenspezifischen Vorläufern. PICOSUN R-200 ist mit einer fortschrittlichen Computereinheit ausgestattet, die es Forschern ermöglicht, Reaktionsparameter wie Temperatur, Reaktionszeit, Gasfluss, Druck und Gaszusammensetzung zu überwachen und zu steuern. Prozessparameter können mit einer Genauigkeit von +/-0,05 ° C abgestimmt werden, um gleichbleibend hochwertige dünne Folien zu erzeugen. Die Vorläufergase werden konsistent in die Abscheidekammer eingeleitet, wodurch die Abscheiderate kontrolliert und eine Gleichmäßigkeit gewährleistet wird. PICOSUN R 200 bietet eine effiziente, zuverlässige und kostengünstige Plattform, um Parameter zu steuern und einen präzisen Abscheideprozess zu gewährleisten. Im Notfall wird die Sicherheitsmaschine R-200 den Druck auf das Leckagesicherheitsniveau reduzieren, das Gas abstellen und die Kammerluft spülen. R 200 ist für die Massenproduktion ausgelegt und kann bis zu 60 Wafer gleichzeitig handhaben. Die adressierbare Fläche für die Probenabscheidung beträgt maximal 300 mm x 300 mm. Der Einwafer-Belademechanismus sorgt für einen sicheren Prozess und sorgt für gleichmäßige Folien über den gesamten Wafer. PICOSUN R-200 bietet eine sichere und zuverlässige Beschichtungslösung für Forschung und Industrie. Insgesamt ist PICOSUN R 200 ein zuverlässiges, effizientes und fortschrittliches ALD-Reaktorwerkzeug. Mit seiner fortschrittlichen Technologie und der hochgenauen Prozesssteuerung ist R-200 ideal für die industrielle Produktion von dünnen Folien aus verschiedenen Materialien.
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