Gebraucht PICOSUN Sunale R 200 #9182976 zu verkaufen

PICOSUN Sunale R 200 ist ein vielseitiger CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Abscheidung dünner Filme verwendet wird. Es wurde entwickelt, um extrem dünne und hochwertige Beschichtungen zu schaffen, sowie Indiumzinnoxid (ITO) und makrovoidfreie Antireflexionsschichten zu ermöglichen. Es kann auch für 3D-Druck und diamantähnliche Kohlenstoffbeschichtungen (DLC) verwendet werden. Sunale R 200 ist eine kompakte, robuste, in sich geschlossene Ausrüstung. Es ist mit einem fortschrittlichen AFTC-System (Automatic Film Thickness Control) ausgestattet, das eine überlegene Batch-to-Batch-Wiederholbarkeit der Beschichtungsdicke und -qualität bietet. Der Reaktor bietet auch hohe Abscheideraten und hohe Prozessstabilität. Es ist in der Lage, ein gleichmäßiges, fehlerfreies Wachstum dünner Filme sowohl für Hochtemperatur- als auch für Tieftemperaturprozesse zu erzielen. Das Gerät hat einen hohen Durchsatz und eignet sich für großvolumige Abscheidungsanwendungen. Darüber hinaus ist es in der Lage, mit großen Substraten zu arbeiten, bis zu 200 mal 500 mm oder einem einzigen 400 mal 500 mm Wafer. Sein modernes Vakuumkammerdesign ist auf die gleichmäßige Abscheidung von dicken Filmen spezialisiert, die eine minimale Kammerspülung erfordern. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein automatisiertes Auspuffwerkzeug, das in wenigen Sekunden präzise Spülvorgänge von bis zu 10 mbar gewährleistet. PICOSUN Sunale R 200 ist mit einem Hochtemperatur-Ultraviolett-Pyrometer (UV) ausgestattet, das die Kontrolle von Temperaturprofilen und Gleichmäßigkeit innerhalb der Kammer unterstützt. Die Anlage verfügt außerdem über ein optisches Thermometer, das die Temperatur an den Kammerwänden misst und die Sicherheit und gleichmäßige Erwärmung gewährleistet. Es verfügt auch über ein Inertgaseinführungsfenster, das die Einführung von Inertgasen für Wachstumsprozesse ermöglicht, die zusätzliche Gase zur Abscheidung benötigen. Sunale R 200 ist für eine Reihe von CVD-Anwendungen bestens gerüstet und bietet eine hervorragende Qualität für die Abscheidung von dünnen Filmen. Es bietet hohe Abscheidungsraten und überlegene Prozessstabilität und sein automatisiertes AFTC-Modell sorgt für hervorragende Batch-to-Batch-Zuverlässigkeit. Die automatisierte Abgasanlage sorgt zusammen mit dem Inertgaseinleitfenster für präzise Prozesse und hohen Durchsatz. Das System ist sehr vielseitig und ermöglicht die Abscheidung einer Vielzahl von dünnen Filmen, einschließlich Indiumzinnoxid und diamantähnlichen Kohlenstoffbeschichtungen.