Gebraucht PLASMATHERM LAPECVD LMTM #9382228 zu verkaufen

PLASMATHERM LAPECVD LMTM ist ein fortschrittlicher Niederdruck, niedrige Temperatur, Mikrowellen-Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidung (CVD) Reaktor. LAPECVD LMTM ist ein einzigartiger, fortschrittlicher CVD-Absorptionsreaktor, der sich durch seine Niedertemperatur- und Druckleistung auszeichnet. Die Niedertemperatur- und Druckfähigkeit des Reaktors wird durch die Verwendung eines innerhalb der Reaktionskammer selbst erzeugten Mikrowellen-Plasma-Speisegases ermöglicht. Dies ermöglicht eine höhere Kontrolle des Abscheideprozesses. Der Reaktor weist eine zylindrische Edelstahlkammer mit einer 4-Zoll-ID-Ausgangsheizzone, einer 2-Zoll-ID-Kältezone und einem an einem beweglichen Arm angeordneten Mikrowellengenerator mit variabler Frequenz auf. Es ist mit einer Quarzröhre mit Mikrowellenfenstern und einem Top-Load-System ausgestattet. Das obere Lastsystem besteht aus vier halbkugelförmigen Platten, die zur Steuerung des Abscheideprozesses gemeinsam verstellbar sind. Das Plasmazuführgas wird über ein Schlitzventil mit gesteuerter Strömungsgeschwindigkeit in den Reaktionsraum eingeleitet. Der Zuführgasstrom wird dann zu einem Diffusor geleitet, der wiederum das Plasma innerhalb der Kammer homogenisiert. Der Diffusor wirkt auch als Druckregler, so dass die Kammer sowohl im Niederdruck- als auch im Hochdruckregime betrieben werden kann. Zur Steuerung der Eigenschaften des Plasmazufuhrgases wird eine Gleichstrom (DC) -Vorspannung verwendet. Durch Anlegen einer negativen Vorspannung werden die Elektronen zu den Substraten hin beschleunigt, was zu einer erhöhten Reaktivität und verbesserten Abscheideraten führt. Der Mikrowellengenerator ist mit einem Plasma-Wartungsmodul gekoppelt, das hilft, das Plasmafeld an den gewünschten Betriebsparametern zu halten. Bei richtiger Einstellung können die Resonanzeigenschaften des Plasmas vom Anfahren an und während des gesamten Prozesses aufrechterhalten werden. Dadurch wird eine gleichmäßigere Abscheidung der festen Folien auf den Substraten gewährleistet. PLASMATHERM LAPECVD LMTM ist in der Lage, hochwertige Dünnschichtbeschichtungen auf einer breiten Palette von Substraten herzustellen. Beispiele für mögliche Anwendungen sind die Abscheidung von Oxiden, Nitriden, vorbeugenden Beschichtungen und Legierungen. Seine Vielseitigkeit und zuverlässige Leistung machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für fast jeden Abscheidungsprozess.