Gebraucht PLASMATHERM LAPECVD PDC #9382231 zu verkaufen

Hersteller
PLASMATHERM
Modell
LAPECVD PDC
ID: 9382231
Weinlese: 2013
PECVD System With PDC controller Power: 208-230 V, 300 Amps, 3-Phase CE Marked 2013 vintage.
PLASMATHERM LAPECVD PDC ist ein fortschrittlicher Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor, der den anspruchsvollen Anforderungen der modernen Halbleiter- und optoelektronischen Geräteherstellung gerecht wird. Der PDC nutzt fortschrittliche Funktionen wie lasergestütztes Plasma (LAPECVD) und quenchless Plasmaerzeugung, um hochwertige, defektarme dielektrische, leitfähige, optische und andere Materialien bei Temperaturen bis 1000 ° C auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Die fortgeschrittene LAPECVD-Ausrüstung schafft ein hoch einheitliches, stabilisiertes und homogenes Plasma mit einem Niedrigtemperaturelektronenergievertrieb über ein Drei-Höhlen-Lasersystem. Diese Merkmale ermöglichen es der Einheit, gleichmäßige und dichte Folienschichten mit präziser Steuerung von Parametern wie Abscheiderate, Gleichmäßigkeit, Verunreinigungseinbau, Gaskollektiv und Abscheidetemperatur abzuscheiden. Die Maschine kann auch konfiguriert werden, um Substratgrößen bis zu 330 mm Durchmesser aufzunehmen, so dass eine effiziente Produktion von kommerziellen sowie Forschungsmaterial abgeschiedenen Folien Mittel- und Großgeräteherstellung ermöglicht. Das abschreckende Plasmaerzeugungswerkzeug verfügt über einen breiten Leistungsbereich, der schnelle Übergänge zwischen Abscheide- und Ätzprozessen ermöglicht, ohne den Prozess abkühlen und neu starten zu müssen. Mit einem großen Quellgaseinspritzloch bietet der PDC zusätzliche Verbesserungen in der Reaktionsgleichmäßigkeit und Stabilität. Die erweiterte Steuerung des PDC umfasst eine dedizierte, integrierte Softwareschnittstelle, die eine bequeme Kontrolle über den gesamten Abscheide- und Ätzprozess bietet und eine einfache Einstellung von Parametern wie Temperatur/Impulsleistung, Pulsfrequenz, HF-Leistung, spezielle Gase und Substrathalterbedingungen ermöglicht. LAPECVD PDC-Modell ist ein fortschrittlicher und effizienter PECVD-Reaktor, der die härtesten Anforderungen in der Halbleiter- und optoelektronischen Geräteherstellung erfüllt. Ausgestattet mit fortschrittlichen Funktionen und präzisen Steuerungsoptionen bietet der PDC eine zuverlässige, einheitliche und konsistente Abscheidung von dielektrischen, leitfähigen, optischen und anderen Materialien für eine Vielzahl von Substraten und Gerätegrößen.
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