Gebraucht PLASMATHERM LAPECVD PM3 #9382240 zu verkaufen

PLASMATHERM LAPECVD PM3 ist ein plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor zur Abscheidung von dünnen Schichten für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Der Reaktor ist für den atmosphärischen Druckbetrieb, die Verwendung von hochfrequentem induktivem Plasma für verbesserte Oberflächenreaktionen und für die Abscheidung mehrerer Materialien, einschließlich Metalle, Legierungen, Oxide und Nitride, ausgelegt. Die Reaktorkammer besteht aus einem Quarzrohr mit einem Innendurchmesser von 32 cm und wird über die mechanische Vakuumpumpe evakuiert. Ein HF-Stromgenerator versorgt die induktive Spule mit HF-Energie, die ein hochfrequentes Niederdruckplasma erzeugt. Das von der Induktionsspule erzeugte elektrische Feld erzeugt ein gleichmäßiges Dichteplasma. Eine HF-Plasmaabschirmung dient zur Verringerung der Oberflächenbeladungswirkung und zur zusätzlichen Gashomogenität in der Reaktorkammer. Der Substrathalter ist aus einem Graphitblock gefertigt, um einen Materialaufbau zu verhindern und gleichzeitig eine gleichmäßige Wärmeverteilung über den Halter zu ermöglichen. Der Substrathalter wird dann an einer verstellbaren und drehbaren Halterung aufgehängt. Dadurch kann das Substrat erwärmt werden, wobei das Substrat rotieren und dem Plasma ausgesetzt werden kann. Dadurch ergibt sich eine gleichmäßige Abscheidung von Materialien auf dem Substrat. Die Prozessgase werden der Prozesskammer über einzelne, getrennte Gaseinlässe zur präzisen Steuerung der Prozessbedingungen zugeführt. Massenstromregler steuern exakt den Fluss von Prozessgasen in die Prozesskammer. Der Druck in der Prozesskammer wird über eine Drosselklappe gesteuert und kann von Atmosphärendruck auf 6 Torr eingestellt werden. Ein elektrostatisches Spannfutter wird verwendet, um einen Wafer während des Abscheidungsprozesses an Ort und Stelle zu halten. Das elektrostatische Spannfutter legt eine hohe Spannung an den Wafer an und erzeugt positive und negative elektrostatische Kräfte, die den Wafer während des Abscheidungsprozesses halten. Zur Messung der Substrattemperaturen ist das Reaktorsystem mit einem optischen Pyrometer ausgestattet. Die Temperatur des Substrats wird mit einem Pyrometer gemessen und dann automatisch von der SPS eingestellt, um die Substrattemperatur innerhalb vom Anwender vorgegebener Grenzen zu halten. LAPECVD PM3 bietet eine sichere und effiziente Möglichkeit, dünne Schutzschichten auf Wafern abzulegen. Der Reaktor ist auf Langzeitstabilität mit konsistenten Ergebnissen ausgelegt, so dass Hersteller verbesserte Ausbeuten an hochwertigen Halbleiterbauelementen erzielen können.