Gebraucht ROTH & RAU MAiA #293752398 zu verkaufen
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ID: 293752398
Weinlese: 2014
PECVD System
BUSCH Pumps
HAMLET Valves
FESTO Pneumatics
VAT Vacuum valves
SMC Digital flow switches
BECKHOFF PLCs
PHOENIX Power supply units
SICK Sensors
MKS Pressure switches
EATON Contactors, switches and relays
BRONKHORST Mass flow meters
LENZE Electric motors
ELERO Linear actuators
HERAEUS Infrared heaters
MUEGGE Magnetron heads
MUEGGE Microwave power supplies
HAPRO Side channel blowers
(4) COBRA BC 1000 F Pumps
(3) COBRA BC 2000 F Pumps
Coatings and dusts consist of the following substances:
Amorphous silicon nitride, SiNx, coherent layers and dust
Amorphous silicon, dust
Amorphous silicon dioxide, SiOx, continuous layers and dust
Amorphous aluminum oxide, AlOx, continuous layers and dust
2014 vintage.
ROTH&RAU MAiA Reaktor ist ein modernes physikalisches Bedampfungssystem (PVD), das für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiter-, Optoelektronik- und Photovoltaik-Industrie konzipiert ist. Dieser Reaktor verfügt über fortschrittliche technologische Fähigkeiten und ein hocheffizientes Design, das eine präzise Filmabscheidung und eine hervorragende Folienqualität ermöglicht. Kernstück des MAiA-Reaktors ist seine Hochvakuumkammer, die eine saubere und kontrollierte Umgebung für die Dünnschichtabscheidung bietet. Der Reaktor ist mit mehreren hochpräzisen Prozessstationen ausgestattet, die eine gleichzeitige Abscheidung mehrerer Schichten ermöglichen, so dass er für komplexe Mehrschichtstrukturen geeignet ist, die in modernen Halbleiterbauelementen und der Solarzellenfertigung erforderlich sind. Eines der Hauptmerkmale des ROTH&RAU MAiA Reaktors ist sein vielseitiges Substrathandhabungssystem, das verschiedene Substratgrößen und -typen aufnehmen kann, darunter Siliziumscheiben, Glassubstrate und flexible Substrate. Diese Vielseitigkeit macht den Reaktor für ein breites Anwendungsspektrum geeignet, von kleinen Forschungs- und Entwicklungsprojekten bis hin zu serienreichen Produktionsprozessen. MAiA-Reaktor verwendet eine Reihe von PVD-Techniken, einschließlich Sputtern, Verdampfen und Ionenstrahlabscheidung, um dünne Filme aus verschiedenen Materialien wie Metallen, Oxiden und Nitriden abzuscheiden. Diese Techniken ermöglichen eine präzise Kontrolle der Schichtdicke, Zusammensetzung und Gleichmäßigkeit, was zu hochwertigen Folien mit hervorragenden elektrischen und optischen Eigenschaften führt. Darüber hinaus ist der Reaktor mit fortschrittlichen Prozessleitsystemen ausgestattet, die eine Echtzeit-Überwachung und Einstellung wichtiger Prozessparameter wie Abscheiderate, Substrattemperatur und Gasdurchflussraten ermöglichen. Dieses Kontrollniveau gewährleistet Reproduzierbarkeit und Konsistenz in der Filmabscheidung, was zu hohen Prozessausbeuten und niedrigen Fehlerraten führt. Darüber hinaus verfügt der ROTH&RAU MAiA-Reaktor über ein Hochdurchsatzdesign, das eine schnelle Abscheidung von dünnen Filmen ermöglicht und somit ideal für Serienumgebungen in hohen Stückzahlen geeignet ist. Die modulare Architektur des Reaktors ermöglicht eine einfache Anpassung und Skalierbarkeit, sodass Benutzer ihre Fähigkeiten erweitern und zukünftigen Prozessanforderungen gerecht werden können. Insgesamt stellt der MAiA-Reaktor eine hochmoderne Lösung zur Dünnschichtabscheidung in der Halbleiter-, Optoelektronik- und Photovoltaikindustrie dar. Mit seinen fortschrittlichen technologischen Fähigkeiten, seinem vielseitigen Design und seiner hohen Durchsatzleistung eignet sich dieser Reaktor gut für eine Vielzahl von Anwendungen, die Präzision, Qualität und Effizienz bei Dünnschichtabscheidungsprozessen erfordern.
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