Gebraucht STS Pro CVD #9284379 zu verkaufen
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ID: 9284379
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
PECVD System, 8"
Process: Oxide (SiO2)
Silane based Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
(2) Carousel load locks, 8"
CVD Chamber parts for single substrate processing
Top electrode: RF Bias
Process vacuum pump
DI Water chiller
Scholl pump
Single chamber:
Driven electrode: Upto 350°C temperature
Chamber heating upto 100°C via distributed cartridge heaters
Lid assembly heating of 300°C max via a cast block
High deposition rate with high gas flow capability
Chiller
Gas panel type: On board
(6) Gas lines
Load lock pump
Chamber pump
Maxi gas box: C4F8, O2, N2O, SiH4, NH3, N2, Ar, He
Mixed frequency configuration: ENI 13.56 MHz, 300W RF power supply
Dual power supplies:
RF Supply and matching unit: 500W (380kHz) RFPP LF-5
RF Supply and matching unit: 1000W (380kHz) RFPP LF-10A
2005 vintage.
STS Pro CVD ist ein CVD-Reaktor, der für die Bearbeitung fortschrittlicher Materialien und deren Oberflächen im Labormaßstab konzipiert ist. Diese Ausrüstung ist in der Lage, dünne Filme aus einer Reihe von fortschrittlichen Materialien zu produzieren, einschließlich Metalle, Oxide, Nitride, Karbide und andere komplexe Verbindungen. Das CVD-Verfahren basiert auf der Zufuhr von Vorläufergasen in eine beheizte Kammer, wo die Dämpfe mit den Kammeroberflächen zu dünnen Filmen reagieren. Das Pro CVD-System verfügt über eine Reihe von Funktionen, um eine präzise und sichere Verarbeitung fortschrittlicher Materialien zu ermöglichen. Das Gerät ist mit Inertgaseinlass, mehreren Abgasöffnungen und einem innovativen Muster-Halter-Design ausgestattet. Der Probenhalter verfügt über einen einzigartigen Feldumkehrmechanismus zur zuverlässigen und gleichmäßigen Abscheidung von dünnen Schichten auf allen Arten von Substraten. Der Halter verfügt außerdem über einen eingebauten Durchflussmesser zur effizienten Steuerung der Gasströme. Die STS Pro CVD-Maschine ist mit einem Hochleistungsheizelement ausgestattet, das Temperaturen bis zu 1300 ° C erreichen kann. Das Werkzeug ist in der Lage, gleichmäßige Oberflächentemperaturen in der gesamten Kammer für eine optimierte CVD-Bearbeitung zu erreichen. Die Anlage ist zudem mit Temperatur- und Drucksensoren sowie Schub- und Drehzahlreglern zur präzisen Steuerung von Prozessparametern ausgestattet. Das Design von Pro CVD Reactor sorgt auch für eine effiziente Kühlung, ermöglicht schnelle Rampen auf/ab und abkühlen Zeiten, für eine verbesserte Prozessreproduzierbarkeit. Darüber hinaus ist das STS Pro CVD Modell mit einem transistorbasierten Controller und einer Benutzerschnittstelle ausgestattet. Dies ermöglicht eine umfassende Kontrolle der Prozessparameter und eine genaue Überwachung des Prozesses. Die benutzerfreundliche Oberfläche ist auch in der Lage, präzise Werte von Prozessparametern mit schnellen Updates in Echtzeit anzuzeigen. Pro CVD Equipment ist sehr zuverlässig und pflegeleicht, so dass es eine ideale Wahl für die Bearbeitung von fortschrittlichen Materialien und deren Oberflächen im Labormaßstab ist. Das System ist für einen präzisen und effizienten Betrieb unter rauen Umgebungsbedingungen ausgelegt. Darüber hinaus verfügt das Gerät über Energieeffizienz und geringen Stromverbrauch und trägt so zur Kosteneinsparung bei.
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