Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NT333 #293591327 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON NT333
ID: 293591327
Wafergröße: 12"
Atomic Layer Deposition (ALD) system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON NT333 ist ein Hochleistungsreaktor, der sich für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen eignet. TEL NT-333 Reaktor wurde entwickelt, um eine kostengünstige, zuverlässige und effiziente Lösung für chemische Reaktionen und Verarbeitungsbedürfnisse zu bieten. Der primäre Zweck von TOKYO ELECTRON NT 333 besteht darin, eine sichere, effiziente und kostengünstige Möglichkeit zu bieten, Reaktionen in einem industriellen Umfeld durchzuführen. Der Reaktor ist auf einer kostengünstigen Edelstahlplattform aufgebaut und umfasst Funktionen wie vernickelte Stahlverkleidungen, eine integrierte Steuereinheit und ein externes Bedienfeld. Der Reaktor ist auf die Optimierung von Temperatur, Druck und Durchfluss ausgelegt, um Reaktionen effizient durchführen zu können. Es bietet auch mehrere Sicherheitsmerkmale wie ein Überstromschutzsystem und ein Isolationssystem, um den Wärmeaufbau zu verhindern. TOKYO ELECTRON NT333 Reaktor hat eine maximale Leistung von 3300 Litern/Stunde, so dass es eine praktikable Option für eine Reihe von industriellen und Laboranwendungen. Aufgrund seiner Konstruktion eignet es sich gut für Reaktionen, die eine schnelle Wärmeübertragungsrate erfordern, so dass es eine gute Option für Reaktionen mit beschleunigten Reaktionszeiten ist. Der Reaktor ist auch auf die Sicherheitsanforderungen des Kunden ausgelegt, da der Reaktor aus korrosionsbeständigen Materialien aufgebaut ist und somit eine ideale Wahl für chemische Verarbeitungsanwendungen ist. TEL NT333 ist zudem hochfunktional, verfügt über eine elektronische Steuerkarte und eine Vielzahl von Funktionen zur Steuerung von Druck, Temperatur und Durchfluss. Der Reaktor ist auch so konzipiert, dass er einfach gewartet und gewartet werden kann, mit einem leicht zugänglichen Kontrollbrett, das über regelmäßig aktualisierte Software-Updates verfügt. Damit ist NT 333 eine ideale Wahl für Zuverlässigkeit, Sicherheit und Effizienz bei verschiedenen chemischen Prozessen.
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