Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON NT333 #293659316 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON NT333
ID: 293659316
Atomic Layer Deposition (ALD) systems.
TEL/TOKYO ELECTRON NT333 ist ein hochmoderner Epitaxiereaktor, der sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die fortschrittliche Geräteproduktion entwickelt wurde. TEL NT-333 Reaktor kombiniert ein hocheffizientes Design mit einem geringen Platzbedarf und ermöglicht eine nahtlose Integration in die Produktionsfläche. Es ist in der Lage, alle gängigen Wafergrößen (2 „bis 8“) mit manuellem oder Roboter Be- und Entladen zu handhaben. TOKYO ELECTRON NT 333 verfügt über eine doppelte Substrat-Heizkammer und kann Substrate auf maximale Temperaturen von bis zu 1.200 ° C erwärmen. Optische Pyrometer- und Temperaturregelungssysteme sorgen für Genauigkeit und Wiederholbarkeit während des Abscheidezyklus. Darüber hinaus profitiert NT333 von einer einzigartigen Gasförderanlage, die eine dynamische Niederdruckregelung ermöglicht und eine präzise Kontrolle über Abscheideraten und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Der Reaktor verfügt auch über ein erweitertes Stromversorgungsmodul, wo Elektrode HF-Leistung programmiert werden kann, um Temperatur und Schichtdicke zu steuern. NT-333 ist mit einer fortgeschrittenen Version des TEL E-VHS „aktive Kammerreinigung“ -Systems ausgestattet. Dieses Gerät bietet eine schnelle und effiziente Reaktionszeit auf sich ändernde Prozessbedingungen, wodurch höhere Durchsatzmengen und weniger Reproduzierbarkeitsprobleme aufgrund von Kammerverschmutzung entstehen. TOKYO ELECTRON NT-333 verfügt auch über eine neu hinzugefügte Mikropartikelfiltrationsmaschine, die stabile Prozesse mit reduzierten Partikelwerten und verbesserten Waferausbeuten bietet. Schließlich bietet TEL NT333 auch ein umfassendes Umweltüberwachungswerkzeug an, das Echtzeitdaten zu einer Vielzahl von Prametern bereitstellt, darunter Gasdruck, Temperatur, Hochfrequenzleistung, Temperaturverteilung und Druckverteilung. Die Analyse dieser Daten kann Prozessingenieuren dabei helfen, Auffälligkeiten leicht zu erkennen und eine Plattform für eine genaue spektrale Datenerfassung bereitzustellen, die die Prozessoptimierung und die Verbesserung der Prozesserträge erleichtert.
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