Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #293666985 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN
ID: 293666985
CVD System.
TEL Triase + EX-II Ti/TiN ist ein hocheffizienter, hochproduktiver CVD-Reaktor der zweiten Generation zur Herstellung hochwertiger Dünnschichtschichten für Anwendungen in der Halbleiterbauelementherstellung. Der Reaktor ist mit einer patentierten einheitlichen Abscheidungstechnologie ausgestattet, die eine überlegene Schicht-Schicht-Gleichmäßigkeit und Prozesskontrolle bietet. Sein Design ist für den kostengünstigen Betrieb optimiert und nutzt einen fortschrittlichen effizienten gasbetriebenen Abgas, um Energieeinsparungen zu maximieren. Der Reaktor besteht aus einer Hauptkammer mit einer Vakuumpumpe und einer Steuereinheit zur Überwachung und Verwaltung der verschiedenen Systemparameter. Der Reaktor kann sowohl für ein- als auch mehrschichtige Dünnschichten wie Titannitrid (TiN) und Titan (Ti) eingesetzt werden. Die einheitliche Abscheidungstechnologie nutzt ein einzigartiges Eintrittsgasverteilungssystem und fortschrittliche Abscheidungsparameter, die eine verbesserte Einheitlichkeit und Prozesskontrolle bieten und eine kostensparende Prozessvereinfachung und -reduzierung ermöglichen. Außerdem entfällt die Belastung durch die Überwachung hoher Partikelwerte zwischen Wafern, die von TOKYO ELECTRON patentiert wird. Der EX-II Ti/TiN Reaktor eignet sich zur hydrierten amorphen und polykristallinen Silizium-Dünnschichtabscheidung. Es ist möglich, gleichmäßige Dickenschichten für eine Reihe von Produkten, einschließlich Leuchtdioden (LEDs), Solarzellen und Dünnschichttransistoren (TFTs), zu schaffen. Der Reaktor ist auch in der Lage, reine monokristalline dünne Filme zu bilden, was eine verbesserte Abscheidungseffizienz im Vergleich zu herkömmlichen Methoden bietet. Der druck- und temperaturgesteuerte Reaktor ist auf eine erhöhte Verarbeitungsflexibilität ausgelegt. Es kann maximale Abscheidungsrate bei niedrigeren Substrattemperaturen im Vergleich zu anderen Designs erreichen, während es überlegene Gleichmäßigkeit von dünnen Schichten und ausgezeichnete thermische Stabilität bietet. Es verwendet auch fortschrittliche Abscheidungsalgorithmen für verbesserte Schrittabdeckung und Stabilität sowie verbesserte Elektronen-Cyclotron-TiN-resistive Abscheidung. Dies führt zu verbesserter Ätzleistung und reduzierter Ti/TiN-Hangbildung. TEL/TOKYO ELECTRON Triase + EX-II Ti/TiN Reaktor wurde entwickelt, um Investitionskosten zu reduzieren, Prozessleistung zu erhöhen und Wartungskosten zu reduzieren. Es verwendet eine Vielzahl von Sensorsystemen, um die Waferdicke in situ zu überwachen und eine ausgezeichnete Kontrolle über die Substrattemperatur und andere Prozessparameter zu gewährleisten. Das robuste Design ermöglicht zuverlässige und reproduzierbare Abscheideergebnisse. Darüber hinaus stehen mehrere kundenspezifische Optionen zur Verfügung, um die Anforderungen für eine Vielzahl von Anwendungen zu erfüllen.
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