Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ EX-II Ti/TiN #9252460 zu verkaufen

TEL Triase + EX-II Ti/TiN ist ein fortschrittlicher chemischer Dampfabscheidungsreaktor (CVD), der in der Halbleiterindustrie weit verbreitet ist. Es wurde entwickelt, um ultradünne Filme mit ausgezeichneter Abdeckung und Schrittabdeckung abzulegen, die für die Herstellung ultrakleiner elektronischer Geräte unerlässlich sind. Der Triase + EX-II Ti/TiN Reaktor ist mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen und Funktionen mit hohem Durchsatz ausgestattet. Es schließt eine Hochleistungs-, Hochfrequenzplasmaquelle der Elektronzyklotronklangfülle (ECR) ein, für die Temperatur, die Dichte und den Energievertrieb von Reaktionspartnergasen zu kontrollieren, genaue Kontrolle von Absetzungsparametern wie materielle Zusammensetzung, Filmdicke, Rate, Morphologie, Korngröße und Oberflächenrauheit berücksichtigend. Darüber hinaus ist der Reaktor mit einem breiten Prozessfenster ausgebildet, das die Abscheidung mehrerer Folien ermöglicht. Der Triase + EX-II Ti/TiN Reaktor verfügt zudem über hocheffiziente Heizzonentechnologie, die Prozesstemperaturen bis 960 ° C ermöglicht. Diese verbesserte thermische Steuerung sorgt für genaue und präzise Abscheidungsleistung, unter Beibehaltung niedriger thermischer Budgetgrenzen. Das Gerät verfügt auch über einfach zu bedienende Steuerungssoftware und Kammerautomatisierungen zur Straffung des Abscheideprozesses, zur Minimierung der Belastung der Kammerkomponenten und zur Erhöhung der Systemlebensdauer. Der Reaktor ist bekannt für seinen zuverlässigen Betrieb und seine ausgezeichnete Folienqualität. Die Abscheidung von Ti/TiN-Folien ist auch für extrem kleine Abmessungen möglich, so dass Anwender eine erstklassige Geräteherstellung erzielen können. Auch diese Reaktoreinheit verfügt über eine hervorragende Stufenabdeckung, die bei der Herstellung von Hochleistungsleiterbahnen und -kontakten wesentlich ist. TOKYO ELECTRON Triase + EX-II Ti/TiN ist eine zuverlässige, hochwertige Abscheidungsreaktormaschine zur Herstellung überlegener Ti/TiN-Filme. Dank seiner fortschrittlichen Eigenschaften und präzisen Filmabscheidungsfunktionen ist es die ideale Wahl für anspruchsvollste Halbleiteranwendungen.