Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ #293763037 zu verkaufen

ID: 293763037
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
CVD System, 12" Hard Disk Drive (HDD) (3) Port loaders (4) Chambers with heater Power rack Robot missing 2015 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Triase + ist eine hochmoderne Plasmabearbeitungsanlage, die den Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterherstellungsprozesse gerecht wird. Dieser Reaktor verfügt über fortschrittliche Technologie und innovative Funktionen, um hohe Leistung, Präzision und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen zu bieten. TEL Triase + -Reaktor nutzt eine hochdichte Plasmaquelle, um eine kontrollierte Plasmaumgebung für präzise Materialätz- und Abscheidungsprozesse zu erzeugen und aufrechtzuerhalten. Das System integriert eine Kombination aus Hochfrequenz (RF) und Mikrowellenenergiequellen, um Plasmadichten und Gleichmäßigkeit zu erreichen, die für hochwertige und konsistente Verarbeitungsergebnisse erforderlich sind. Die Reaktorkammer ist aus fortschrittlichen Materialien aufgebaut, die der rauen Plasmaumgebung und hohen Temperaturen, die bei der Verarbeitung auftreten, standhalten können. Das Design der Kammer gewährleistet eine effiziente Verteilung von Prozessgasen und Plasmaenergie über die Substratoberfläche für eine gleichmäßige Verarbeitung und minimale Partikelverschmutzung. Eines der Hauptmerkmale des TOKYO ELECTRON Triase + Reaktors ist seine fortschrittliche Prozesssteuereinheit, die eine Echtzeit-Überwachung und Anpassung von Prozessparametern ermöglicht, um die Verarbeitungsergebnisse zu optimieren. Die Maschine verfügt über fortschrittliche Sensoren und Rückkopplungsmechanismen, um eine präzise Kontrolle der Plasmaparameter, Gasdurchflussraten und Temperaturbedingungen während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Der Triase + Reaktor ist mit einer Reihe fortschrittlicher Gaszufuhrsysteme ausgestattet, die eine präzise Steuerung von Prozessgasen und deren Durchflussraten ermöglichen. Das Werkzeug kann eine Vielzahl von Prozessgasen und Vorläufern aufnehmen, die für verschiedene Ätz- und Abscheidungsprozesse benötigt werden, wodurch Flexibilität in der Prozessentwicklung und -optimierung ermöglicht wird. Der Reaktor verfügt zudem über eine hochmoderne Substrathandhabung, die eine genaue Positionierung und Steuerung von Substraten während der Verarbeitung gewährleistet. Dieses Modell ermöglicht die Verarbeitung von großen Substraten mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit, wodurch konsistente Verarbeitungsergebnisse auf mehreren Substraten gewährleistet werden. TEL/TOKYO ELECTRON Triase + Reaktor ist entworfen, um die strengen Anforderungen der fortschrittlichen Halbleiterherstellungsprozesse zu erfüllen, einschließlich tiefes Siliziumätzen, dielektrisches Ätzen, Metallätzen und andere kritische Prozesse. Das Gerät ist in der Lage, ein hohes Seitenverhältnis bei hoher Selektivität und Gleichmäßigkeit zu erreichen, was es ideal für die Herstellung komplexer Halbleiterbauelemente mit engen Konstruktionsspezifikationen macht. Der TEL Triase + -Reaktor wurde unter Berücksichtigung der Skalierbarkeit entwickelt und ermöglicht die Integration mehrerer Prozessmodule für mehr Durchsatz und Flexibilität in der Prozessentwicklung. Das System ist auch so konzipiert, dass es leicht aufrüstbar ist, um zukünftigen Prozessanforderungen und technologischen Fortschritten in der Halbleiterindustrie gerecht zu werden. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Triase + eine hochmoderne Plasmabearbeitungseinheit, die hohe Leistung, Präzision und Zuverlässigkeit für fortschrittliche Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, innovativen Funktionen und robustem Design ist der Triase + Reaktor gut geeignet, um den sich entwickelnden Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht zu werden und Innovationen in der Halbleiterbauelementeherstellung voranzutreiben.
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