Gebraucht THOMAS SWAN / AIXTRON CCS #293630289 zu verkaufen

Hersteller
THOMAS SWAN / AIXTRON
Modell
CCS
ID: 293630289
Wafergröße: 2"-6"
MOCVD System, 2"-6".
THOMAS SWAN/AIXTRON CCS ist ein plasmaverbesserter PEVCD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) zur Herstellung einer Reihe von Halbleiterfilmen. Der AIXTRON CCS-Reaktor verwendet ein Breitbohrungssystem, um eine große Abscheidungsfläche bereitzustellen, wodurch das System flexibel ist, um eine Reihe von Folien für viele verschiedene Anwendungen herzustellen. Das Breitbohrungssystem ermöglicht auch einen hohen Durchsatz und eine hochpräzise Kontrolle der Foliendicke. THOMAS SWAN CCS ist mit einer Ultrahochfrequenz (UHF) Hochfrequenz (RF) -Quelle und einer Plasma-Ionisationsquelle ausgestattet, um die Abscheidungsreaktion zur Erzeugung von Filmen anzuregen. Die UHF-Quelle erzeugt ein elektrisches Wechselfeld zwischen dem Substrat und der HF-Quelle, wodurch das Plasma ionisiert wird und die reaktiven Materialien auf dem Substrat abgeschieden werden. Neben der UHF-Quelle enthält CCS auch eine Hochleistungs-Gleichstromquelle (DC), um die anhaltende Plasmazündung durchzuführen. Die Gleichstromquelle schafft ein langlebiges elektrisches Feld, das die Plasmabildung aufrechterhält. Es sorgt auch für eine konsistente Plasmaionisation, Ionenenergie und Abscheidungsrate. Darüber hinaus ermöglicht die Gleichstromquelle sehr niedrige Substrattemperaturen, was dazu beiträgt, das Risiko von Substratschäden während der Abscheidung zu reduzieren. THOMAS SWAN/AIXTRON CCS hat auch mehrere Einlässe für das Abscheidegas, so dass kontrollierte und variable Konzentrationen der Vorläufermaterialien. Der Gaseinlaß enthält auch eine Brausekopfdüse zur gleichmäßigeren Zuführung der Vorläufermaterialien zur gleichmäßigeren Filmabscheidung. Zusätzlich enthält AIXTRON CCS einen Bottom-Up-Suszeptor, um das Substrat auf einer konsistenten Temperatur und einem konstanten Druck zu halten, der eine gleichmäßige Abscheidung im gesamten Film gewährleistet. THOMAS SWAN CCS Reaktor ist benutzerfreundlich konzipiert und seine fortschrittlichen Prozesskontrollen bieten Anwendern zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. CCS-Reaktor ist ideal für die Herstellung technologisch fortschrittlicher Dünnschichten und eignet sich für eine Vielzahl von Halbleitern, einschließlich Transistoren und Solarzellen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor