Gebraucht TOSHIBA / NUFLARE EGV-28FM #9069033 zu verkaufen

TOSHIBA / NUFLARE EGV-28FM ist eine Hochleistungselektronbalkensteindruckverfahrenausrüstung, die für die Produktion von fortgeschrittenen Materialien in der Entwicklung von Grundoblaten für die Herstellung von Halbleitergeräten entworfen ist. Das System besteht aus einer direkten Schreibpistole mit einem Durchmesser von 14 cm, die Muster mit sehr präzisen Merkmalen bis zu einer Größe von 8 nm erzeugen kann. Es ist auch in der Lage, den Strahl extrem präzise auf dem Wafer zu positionieren, was für die Herstellung hochpräziser Halbleiterstrukturen erforderlich ist. Das Gerät ist für die Bearbeitung von Wafern mit 300 mm oder mehr und bis zu 28 Zoll Wafern ausgelegt. Die Maschine kann Substrate wie Galliumarsenid, Silizium und Indiumphosphid verarbeiten. Es hat die Fähigkeit, eine Reihe von Strukturen, wie High-Aspect-Verhältnis Vias, Kontakte, Nanometer, verschiedene Metalle und Polymere zu strukturieren. Das Werkzeug kann auch zur Ausrichtung verwendet werden, indem die Registriermarken auf dem Wafer mit dem gezeichneten Muster überlappt werden. Die Pistole ist auf einer drehbaren Bühne montiert, was eine genaue Ausrichtung und eine gleichmäßigere Strahlintensität über den Wafer ermöglicht. Die Stufe bietet Nanometer-Genauigkeit und ermöglicht auch eine schnelle und präzise Positionierung des Elektronenstrahls, wodurch die Prozesszeit reduziert und der Durchsatz verbessert wird. Der Elektronenstrahl wird mit einer Aufprallionisationselektronenquelle mit sehr hoher Helligkeit erzeugt. Die Quelle kann in verschiedenen Stromstufen von 1mA bis 30mA betrieben werden, wodurch die Intensität des Strahls eingestellt werden kann. Das Asset verfügt außerdem über einen hochauflösenden Spotmonitor zur Einstellung und Aufrechterhaltung der Strahlqualität. Es kann auch mit einer Lade-/Entladeeinrichtung in der Kammer ausgestattet werden, mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von besser als 50 Mikrometern. Das elektronenstrahlaktivierte Plasma in der Kammer kann zur Verarbeitung empfindlicher Materialien verwendet werden. Die Kammer besteht aus ultrahochvakuumfreiem Edelstahl, der für eine niedrige Vakuumpartikelanzahl ausgelegt ist. Die Hochspannungsversorgung im Modell ist in der Lage, eine beschleunigende Spannung von 0V nach 50kV bereitzustellen und ist so konzipiert, dass ein sicherer und zuverlässiger Betrieb gewährleistet ist. TOSHIBA EGV-28FM ist eine fortschrittliche Ausrüstung für die Herstellung neuer Materialien, mit hoher Auflösung und Genauigkeit. Es kann verwendet werden, um verschiedene Strukturen für Basiswafer herzustellen, mit der Fähigkeit, jede Größe des Wafers aufzunehmen, so dass es ideal für Halbleiterbauelemente der nächsten Generation ist.