Gebraucht ULTRATECH / VEECO Savannah G2 #9396984 zu verkaufen

ULTRATECH/VEECO Savannah G2 ist ein ALD-Reaktor (Atomic Layer Deposition), der hauptsächlich zur Abscheidung von dünnen Schichten verwendet wird. Es kann das Wachstum dünner Filme von wenigen bis hunderten Nanometern im Durchmesser genau steuern. Diese Anlage ist ein Einkammer-Atmosphärendruck-ALD-Reaktor mit einer Kaltwandtechnologie zur Prozessgasverteilung. Das System ist in der Lage, Temperaturen bis zu -40 ° C und eine Reihe von reaktiven Gasgemischen zu handhaben, die es ermöglichen, Materialien wie Oxide, Nitride und Metalle abzuscheiden. VEECO Savannah G2 ist mit zwei Duschkopf-Gasinjektoren ausgestattet, die für hochreaktive Gase geeignet sind. Diese Injektoren sind so ausgelegt, dass sie auch einen homogenen Gasstrom bei niedrigen Strömungsgeschwindigkeiten ermöglichen. Darüber hinaus eignet sich der Duschkopf für Batch-Prozessoperationen, da er mit einem Burst-Modus geliefert wird, bei dem Material pulsförmig abgeschieden wird, was für gleichmäßige und wiederholbare Ergebnisse sorgt. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine schnelle Temperaturrampenfunktion, die Hochdurchsatzprozesse wie Filmwachstum ermöglicht, wenn Proben zwischen Zyklen erwärmt und gekühlt werden müssen. Darüber hinaus ist die Maschine auch mit einem Stickstoffspülwerkzeug zur Steuerung des Drucks in der Kammer bei Verwendung hochreaktiver Gase wie Wasser und Hydroxy zur Reduzierung der Abscheidegeschwindigkeit ausgestattet. Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein integriertes optisches Pyrometer, das genaue thermische Daten und Echtzeit-Rückkopplung zur Steuerung der Temperatur der Kammer liefert. Mit seiner mechanischen Klammeröffnung können Benutzer problemlos auf die Kammer zugreifen, ohne Komponenten entfernen oder modifizieren zu müssen. Es ist auch mit fortschrittlicher Steuerungssoftware ausgestattet, die eine Plattform zur Anpassung von Prozessen an die Anforderungen des Benutzers bietet. ULTRATECH Savannah G2 ist in der Lage, Wachstumsraten bis zu 5nm/min zu erreichen und hat eine sehr gute Wiederholbarkeit beim mehrmaligen Ablegen desselben Films. Es wurde erfolgreich zur Erforschung und Entwicklung neuer Materialien sowie zur Herstellung von Dünnschichtgeräten wie Mikroprozessoren, Solarzellen und Leuchtdioden eingesetzt.