Gebraucht ULVAC CC-200Lt #293759023 zu verkaufen

ULVAC CC-200Lt ist ein modernster CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für erweiterte Dünnschichtabscheidungs- und Materialbearbeitungsanwendungen entwickelt wurde. Entwickelt von ULVAC, einem weltweit führenden Anbieter von Vakuumtechnologie, bietet CC-200Lt unvergleichliche Leistung, Zuverlässigkeit und Flexibilität für eine breite Palette von Forschungs- und Industrieanforderungen. Im Zentrum von ULVAC CC-200Lt steht die Hochleistungsreaktorkammer aus Edelstahl der Spitzenklasse. Die Kammer ist so konzipiert, dass ultrahohe Vakuumbedingungen aufrechterhalten werden, die für präzise Dünnschichtabscheidungsprozesse unerlässlich sind. Mit einer Kapazität von 200 Litern bietet die Reaktorkammer ausreichend Platz für die Aufnahme verschiedener Substratgrößen und -formen und bietet Vielseitigkeit für vielfältige Anwendungen. CC-200Lt verfügt über ein ausgeklügeltes Gasfördersystem, das eine präzise Steuerung der Strömungsgeschwindigkeiten mehrerer Vorläufergase ermöglicht. Diese präzise Steuerung ist entscheidend für ein gleichmäßiges Dünnschichtwachstum und eine hochwertige Materialabscheidung. Der Reaktor ist mit fortschrittlichen Massendurchflussreglern und Druckregelsystemen ausgestattet, um genaue und reproduzierbare Prozessbedingungen zu gewährleisten. Eines der Hauptmerkmale von ULVAC CC-200Lt ist seine Hochtemperaturfähigkeit, die Abscheideprozesse bei erhöhten Temperaturen bis 1000 ° C ermöglicht. Diese Fähigkeit ist entscheidend für die Abscheidung einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Oxiden, Nitriden, Karbiden und Metallen, mit ausgezeichneter Folienqualität und Haftung. Der Hochtemperaturbetrieb erleichtert auch das Wachstum kristalliner Filme und komplexer Mehrschichtstrukturen. CC-200Lt enthält eine hochmoderne Plasmaquelle, um den Abscheidungsprozess zu verbessern und plasmaunterstützte CVD-Techniken zu ermöglichen. Die Plasmaquelle erzeugt eine hochreaktive Umgebung, die chemische Reaktionen fördert und die Filmeigenschaften wie Dichte, Haftung und Gleichmäßigkeit verbessert. Die plasmaunterstützten Abscheidungsfähigkeiten des Reaktors machen es ideal für die Herstellung fortschrittlicher funktioneller Beschichtungen und dünner Filme mit maßgeschneiderten Eigenschaften. Der Reaktor ist mit einem Hochleistungs-HF-Generator für die Plasmaanregung ausgestattet, der eine präzise Kontrolle über Plasmaparameter und die Optimierung der Filmwachstumskinetik ermöglicht. Der HF-Generator bietet Flexibilität bei der Abstimmung von Plasmaeigenschaften wie Dichte, Energie und Ionenfluss, um die Folienmikrostruktur und -eigenschaften auf spezifische Anwendungsanforderungen abzustimmen. ULVAC CC-200Lt ist mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche mit intuitiven Softwaresteuerungen zur einfachen Bedienung und Überwachung von Prozessparametern konzipiert. Der Reaktor ist kompatibel mit fortschrittlichen Prozessautomatisierungs- und Rezepturmanagementsystemen, die eine effiziente Prozessentwicklung und -optimierung ermöglichen. Die umfassenden Datenerfassungs- und Meldefähigkeiten des Reaktors ermöglichen eine eingehende Analyse und Steuerung von Abscheideprozessen zur Erzielung hochwertiger Dünnschichten. Zusammenfassend ist CC-200Lt ein hochmoderner CVD-Reaktor, der außergewöhnliche Leistung, Zuverlässigkeit und Vielseitigkeit für moderne Dünnschichtabscheidungsanwendungen bietet. Mit seinem Hochtemperaturbetrieb, einem präzisen Gaszufuhrsystem, plasmaunterstützten Abscheidefähigkeiten und einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ist ULVAC CC-200Lt die ideale Plattform für Spitzenforschung und industrielle Anwendungen, die eine überlegene Dünnschichtqualität und Anpassung erfordern.