Gebraucht ULVAC CME-200J #293680515 zu verkaufen

Hersteller
ULVAC
Modell
CME-200J
ID: 293680515
Plasma CVD system Multi-chamber.
ULVAC CME-200J ist ein modernster plasmaverbesserter PECVD-Reaktor für die präzise und effiziente Abscheidung von Dünnschichten in Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigungsprozessen. Dieser von ULVAC, einem führenden Anbieter von Vakuumtechnologie-Lösungen, entwickelte Reaktor bietet fortschrittliche Möglichkeiten zur Abscheidung hochwertiger Folien mit überlegener Gleichmäßigkeit und Kontrolle über Foliendicke, Zusammensetzung und Eigenschaften. CME-200J Reaktor verfügt über ein Hochleistungsdesign, das die Chargenverarbeitung mehrerer Substrate ermöglicht und den Durchsatz und die Produktivität in Produktionsumgebungen erhöht. Seine vielseitige Kammergröße bietet Platz für verschiedene Substratgrößen und -formen und eignet sich somit für eine Vielzahl von Anwendungen in Branchen wie der Herstellung integrierter Schaltungen (IC), Anzeigetechnologien, MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) und Photovoltaik. Herzstück von ULVAC CME-200J ist das fortschrittliche Plasmaerzeugungssystem, das Prozessgase effizient aktiviert, um eine hochreaktive Plasmaumgebung für die Filmabscheidung zu schaffen. Der Reaktor ist mit einem Hochleistungs-Hochfrequenzgenerator und einem präzisen Gasfördersystem ausgestattet, das eine enge Kontrolle der Plasmaparameter wie Gasflussraten, Druck und Plasmadichte ermöglicht. Dieses Kontrollniveau ermöglicht optimierte Filmwachstumsraten, Abscheidungsgleichmäßigkeit und Materialeigenschaften und gewährleistet konsistente und reproduzierbare Ergebnisse über mehrere Chargen hinweg. CME-200J verfügt über ein modernes Wafer-Handling-System, das das automatische Be- und Entladen von Substraten ermöglicht, wodurch der Eingriff des Bedieners minimiert und die Zykluszeiten reduziert werden. Die Reaktorkammer ist für eine ausgezeichnete thermische Stabilität und gleichmäßige Temperaturverteilung ausgelegt, die für eine gleichmäßige Filmabscheidung über große Substratbereiche wesentlich ist. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über fortschrittliche Sicherheitsverriegelungen und Überwachungssysteme, um eine sichere Betriebsumgebung zu gewährleisten und wertvolle Substrate und Geräte zu schützen. Einer der Hauptvorteile von ULVAC CME-200J ist die Kompatibilität mit einer Vielzahl von Vorstufen und Abscheideprozessen, die Flexibilität bei der Materialauswahl und Prozessoptimierung bieten. Der Reaktor unterstützt die Abscheidung verschiedener Dünnschichtmaterialien, darunter Dielektrika, Halbleiter, Metalle und Verbundhalbleiter, wodurch komplexe Bauelementstrukturen mit maßgeschneiderten elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften hergestellt werden können. CME-200J ist auch mit fortschrittlichen In-situ-Diagnose- und Prozessüberwachungsfunktionen ausgestattet, die ein Echtzeit-Feedback zu Prozessbedingungen und Filmeigenschaften ermöglichen. Dies ermöglicht es Anwendern, Prozessparameter im Handumdrehen zu optimieren, Fehler zu minimieren und die Reproduzierbarkeit der Filmeigenschaften von Run bis Run sicherzustellen. Abschließend ist ULVAC CME-200J ein hochentwickelter PECVD-Reaktor, der außergewöhnliche Leistung, Vielseitigkeit und Zuverlässigkeit für Dünnschichtabscheidungsanwendungen in der Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigung bietet. Mit seiner fortschrittlichen Plasmatechnologie, der präzisen Prozesssteuerung und den automatisierten Betriebsmerkmalen ist CME-200J bestens geeignet für Serienumgebungen, die hochwertige Dünnschichten mit überlegener Gleichmäßigkeit und Leistung erfordern.
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