Gebraucht ULVAC Entron-EX2 W300 #9314154 zu verkaufen

ULVAC Entron-EX2 W300 ist ein plasmaverbesserter thermischer CVD-Reaktor für die Halbleiterherstellung. Es ist in der Lage, hochwertige Filme auf modernen Substraten abzuscheiden, einschließlich Silizium, Oxid, Glas und anderen fortschrittlichen kristallinen Materialien. Entron-EX2 W300 ist das neueste Modell von ULVAC (Ultra-Low Voltage Acoustic CVD) und verfügt über eine innovative und leistungsstarke W-förmige 300-MHz Plasmaquelle. Dadurch kann das Gerät ultrahohe Abscheidungsraten und Hochtemperatur-Plasma-CVD-Prozesse erzeugen. Das Gesamtdesign von ULVAC Entron-EX2 W300 ist sehr kompakt und eignet sich sowohl für Laboranwendungen als auch für die Halbleiterproduktion. Es misst nur 480 (B) x 1075 (D) x 905 (H) mm und ist in der Lage, Materialien auf Substraten von bis zu 150 mm Größe abzuscheiden. Das Gerät verfügt über eine integrierte Prozesssteuerungsschnittstelle, die zur Steuerung von Durchfluss, Gasgemisch, Druck und Temperatur verwendet wird. Entron-EX2 W300 nutzt eine Hochleistungs-HF-Entladung zusammen mit einem fortschrittlichen Lichtbogensteuerungssystem, um eine gleichmäßige, Hochleistungs-Plasmaproduktion zu ermöglichen. Dadurch wird sichergestellt, dass Materialfilme gleichmäßiger Dicke auf verschiedenen Substraten abgeschieden werden, was bei der Halbleiteranordnung und der Halbleiterwaferherstellung hervorragende Ergebnisse erzielt. ULVAC Entron-EX2 W300 verfügt zudem über einen integrierten Mikrocontroller zur Überwachung und Steuerung von Parametern wie Temperatur, Druck und Durchfluss. Entron-EX2 W300 verfügt über eine Vielzahl weiterer Merkmale, die es ideal für den Einsatz in Halbleiterbauelementen und der Halbleiterwaferherstellung machen. Es verfügt auch über eine keramische Isolierung Design, der Wärmeverlust während des Betriebs minimiert, helfen, Energiekosten zu senken. Darüber hinaus hat ULVAC ein neuartiges Kühlsystem implementiert, das eine Reihe von thermoelektrischen Kühlern verwendet, um sicherzustellen, dass das Gerät bei langen Produktionsläufen kühl und effizient bleibt. Insgesamt ist ULVAC Entron-EX2 W300 ein unglaublich fortschrittlicher und zuverlässiger thermischer CVD-Reaktor, der qualitativ hochwertige Filme auf verschiedenen Substraten abscheiden kann. Seine innovative und leistungsstarke W-förmige 300-MHz Plasmaquelle ermöglicht sehr hohe Abscheidungsraten und Hochtemperatur-Plasma-CVD-Prozesse, und ULVAC Advanced Cooling System sorgt dafür, dass die Gerätetemperatur konstant für mehr Energieeffizienz gehalten wird. Seine kompakte Bauweise und seine vielfältigen Spezialmerkmale machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen und Halbleiterscheiben-Fertigungsanwendungen.