Gebraucht ULVAC EX-550-C10 #293830630 zu verkaufen

ULVAC EX-550-C10
Hersteller
ULVAC
Modell
EX-550-C10
ID: 293830630
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1994
Vapor deposition system, 6" 1994 vintage.
ULVAC EX-550-C10 ist ein hochmoderner plasmaverbesserter PECVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für Hochleistungs-Dünnschichtabscheidungen in einer Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde, einschließlich Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen und fortschrittliche Materialforschung. Dieses fortschrittliche Werkzeug ist mit fortschrittlichen Funktionen und Funktionen ausgestattet, die eine präzise Kontrolle über Foliendicke, Zusammensetzung und Eigenschaften ermöglichen, was es zu einer idealen Wahl für Forscher und Hersteller macht, die an modernsten Technologien arbeiten. Herzstück von ULVAC EX 550-C10 ist die Hochleistungs-Lastverriegelung, die ein schnelles und effizientes Be- und Entladen von Wafern ermöglicht, Ausfallzeiten minimiert und den Gesamtdurchsatz erhöht. Das System ist in der Lage, mehrere Substrate gleichzeitig zu handhaben, was eine hohe Serienleistung und Effizienzsteigerung ermöglicht. Das Lastschloss-Design hilft auch dabei, eine saubere Prozessumgebung zu erhalten, Verschmutzungen zu reduzieren und die Folienqualität zu verbessern. Eines der Hauptmerkmale von EX-550-C10 ist seine fortschrittliche Plasmaerzeugungseinheit, die eine hochdichte Plasmaquelle verwendet, um die Filmqualität und die Abscheidungsraten zu verbessern. Die Maschine ist mit einem Hochleistungs-HF-Generator und einem einzigartigen Elektrodendesign ausgestattet, das eine gleichmäßige Plasmaverteilung über die Substratoberfläche gewährleistet. Dies führt zu hochwertigen Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit, wodurch EX 550-C10 ideal für anspruchsvolle Anwendungen ist, die eine präzise Kontrolle der Folieneigenschaften erfordern. Die Reaktorkammer von ULVAC EX-550-C10 ist aus hochwertigen, korrosions- und hochtemperaturbeständigen Materialien aufgebaut, die langfristige Zuverlässigkeit und Standzeit gewährleisten. Die Kammer ist mit fortschrittlichen Gasförder- und Pumpsystemen ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Prozessbedingungen, einschließlich Gasdurchflussraten, Drücken und Zusammensetzungen, ermöglichen. Diese Steuerung ermöglicht es Benutzern, die Filmeigenschaften an spezifische Anforderungen wie Dicke, Brechungsindex und optische Eigenschaften anzupassen. ULVAC EX 550-C10 verfügt über eine benutzerfreundliche Schnittstelle, mit der Bediener den Abscheidungsprozess einfach in Echtzeit programmieren und überwachen können. Das Tool ist mit fortschrittlichen Funktionen zur Prozessüberwachung und -steuerung ausgestattet, einschließlich optischer Emissionsspektroskopie (OES) und Massenspektrometrie, die wertvolle Einblicke in die Plasmachemie und die Filmwachstumsmechanismen geben. Diese Informationen können verwendet werden, um Prozessparameter zu optimieren und die Folienqualität und -leistung zu verbessern. Abschließend ist EX-550-C10 ein hochmoderner PECVD-Reaktor, der eine beispiellose Kontrolle und Flexibilität für die Dünnschichtabscheidung in einer Vielzahl von Anwendungen bietet. Mit seiner Hochleistungs-Lastverriegelung, fortschrittlicher Plasmaerzeugungstechnologie und einer benutzerfreundlichen Schnittstelle ist EX 550-C10 ein vielseitiges Werkzeug, das den anspruchsvollen Anforderungen moderner Forschungs- und Fertigungsumgebungen gerecht wird. Ob für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, optische Beschichtungen oder Materialforschung, ULVAC EX-550-C10 ist eine zuverlässige und effiziente Wahl für hochwertige Dünnschichten mit präziser Kontrolle ihrer Eigenschaften.
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