Gebraucht UNIVERSAL SACVD Chamber for Delta #293761637 zu verkaufen

ID: 293761637
Wafergröße: 6"-8"
6"-8".
UNIVERSAL SACVD Chamber for Delta ist ein fortschrittlicher Reaktor für die Abscheidung von dünnen Filmen mit Hilfe der SACVD-Technik (Spatial ALD - Atomic Layer Deposition Combined with CVD - Chemical Vapor Deposition). Diese innovative Kammer wurde speziell gebaut, um eine vielseitige Plattform für die präzise und gleichmäßige Abscheidung verschiedener Materialien auf Substraten zu bieten, die einen hohen Durchsatz und eine hervorragende Folienqualität bietet. Die Hauptkammer von UNIVERSAL SACVD für Delta Reaktor ist mit hochwertigen Materialien wie Edelstahl gebaut, um Haltbarkeit und Vakuumintegrität während des Abscheidungsprozesses zu gewährleisten. Es verfügt über eine robuste Konstruktion, die hohen Temperaturen und Drücken standhalten kann, sowie verschiedene chemische Reaktionen, die bei der Filmabscheidung auftreten. Eines der Hauptmerkmale von SACVD Chamber für Delta ist seine Fähigkeit, den Abscheidungsprozess mit hoher Präzision zu steuern. Dies wird durch eine Kombination aus fortschrittlichen Gasfördersystemen, Temperaturregelmechanismen und präziser Druckregelung erreicht. Der Reaktor ist mit mehreren Gaseinlässen, Massenstromreglern und Drucksensoren ausgestattet, um die Durchflussraten und Zusammensetzungen der im Abscheidungsprozess verwendeten Gase genau zu steuern. Die Temperaturregeleinrichtung von UNIVERSAL SACVD Chamber für Delta ermöglicht eine präzise Abstimmung der Substrattemperatur während der Abscheidung. Dies ist entscheidend für die Erzielung der gewünschten Filmeigenschaften und die Steuerung der Wachstumsrate dünner Filme. Die Kammer ist in der Lage, das Substrat auf hohe Temperaturen zu erwärmen und eine stabile Temperatur während des gesamten Abscheidungsprozesses aufrechtzuerhalten. Das Gasfördersystem des Reaktors ist so ausgelegt, dass eine gleichmäßige Gasverteilung über die Substratoberfläche gewährleistet ist. Dies ist entscheidend für die Erzielung einheitlicher Filmdicke und Eigenschaften auf großen Substratflächen. Die Gasströmungsmuster innerhalb der Kammer sind optimiert, um Gasphasenreaktionen zu minimieren und eine effiziente Nutzung von Vorläufergasen zu gewährleisten. SACVD-Kammer für Delta ist auch mit einer fortschrittlichen Pumpeinheit ausgestattet, um ein hohes Vakuum innerhalb der Kammer während des Abscheidungsprozesses aufrechtzuerhalten. Dies ist wesentlich, um eine Kontamination der dünnen Folien zu verhindern und eine saubere Abscheidungsumgebung zu gewährleisten. Die Pumpmaschine umfasst Hochleistungs-Turbomolekularpumpen und kryogene Pumpen, die das erforderliche Vakuumniveau erreichen und aufrechterhalten können. Neben einer präzisen Prozesssteuerung und hohen Vakuumkapazitäten bietet UNIVERSAL SACVD Chamber für Delta eine benutzerfreundliche Schnittstelle für eine einfache Bedienung und Überwachung des Abscheidungsprozesses. Der Reaktor ist mit einem Touchscreen-Bedienfeld ausgestattet, mit dem Benutzer Abscheidungsrezepte einrichten, Prozessparameter in Echtzeit überwachen und Daten zur Prozessoptimierung analysieren können. Insgesamt ist die SACVD-Kammer für Delta ein hochmoderner Reaktor, der fortschrittliche Technologien für die Dünnschichtabscheidung mit benutzerfreundlichen Bedienungs- und Steuerungsfunktionen kombiniert. Sein vielseitiges Design, seine präzise Prozesssteuerung und sein hohes Vakuum machen es zu einem idealen Werkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiter-, optischen Beschichtungs- und fortschrittlichen Werkstoffindustrie.
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