Gebraucht VDL R2R #9292764 zu verkaufen

Hersteller
VDL
Modell
R2R
ID: 9292764
Atomic Layer Deposition (ALD) system R2R Reactor operation Deposition at atmospheric pressure up to 150°C (6) Deposition cycles per drum rotation 0.7 nm Deposited per drum-cycle Web speed: Up to 10 m/min R2R Function: R2R ALD (In the middle) Two coating / Printing stations Two UV curing units Nominal substrate width: 514 nm Gas cabinet Deposition of zinc oxide and zinc sulfide Prepared for aluminum oxide Nitrogen purification Drum allows ALD depositions up to 150°C.
VDL R2R steht für Vakuum-Abscheidung Flüssigkeit Rezeptor-zu-Rezeptor, ist eine Art von industriellen Reaktor, der hauptsächlich für reaktive Dünnschicht-Abscheidung und Oberflächentechnik Prozesse verwendet wird. Es handelt sich um die Verwendung einer Kombination von Vakuumabscheidung und Oberflächenreaktionen, um dünne Filme auf einem Substrat zu erzeugen. R2R hat zwei Komponenten: eine Vakuumabscheidungseinheit und eine Substratbaugruppe. Die Vakuumabscheidungseinheit verwendet eine Vielzahl von Zulaufströmen, die auf der Grundlage der gewünschten Reaktionsmechanismen gewählt werden. Dazu gehören typischerweise flüssige Quellen wie Organometallicen, anorganische Salze und gasförmige Chemikalien wie Titantetrachlorid sowie feste Vorstufen wie Metalloxide und organische Monomere. Dieser Dampf oder diese Flüssigkeit wird dann auf ein Substrat geleitet, das den Abscheidungsaktivitäten ausgesetzt ist. Die Substratanordnung besteht typischerweise aus einer Abscheidekammer mit rotierendem Substrathalter. Der Halter ist dazu ausgelegt, das Substrat mit fortschreitender Abscheidungsaktivität zu drehen. Diese Rotation hilft, gleichmäßige Schichten auf dem Substrat zu erzeugen. Gleichzeitig wird ein Heizelement verwendet, um die Temperatur zu halten und eine ungleichmäßige Abscheidung zu verhindern. Während des VDL R2R Prozesses wird das Substrat der reaktiven Dünnschichtabscheidung und der Oberflächentechnik ausgesetzt. Abhängig von den eingesetzten Zulaufströmen treten auf dem Substrat verschiedene chemische Reaktionen auf. Enthalten die Einsatzströme beispielsweise organische Verbindungen, so finden Oxidationsreaktionen zu einem dünnen Film statt. Ebenso können auch Reaktionen wie Reduktion, Polymerisation und stromlose Beschichtung zur Modifizierung der Oberfläche des Substrats verwendet werden. Das Ergebnis R2R Verfahrens ist ein dünner Film, der gleichmäßig und auf eine bestimmte Anwendung zugeschnitten ist. Die Dicke der Folie kann durch Einstellung der Abscheidungsparameter gesteuert werden. Darüber hinaus eignet sich das Verfahren für eine Vielzahl von Substrattypen wie Metalle, Keramiken und Polymere. Insgesamt ist VDL R2R eine effektive und effiziente Methode zur reaktiven Dünnschichtabscheidung und Oberflächentechnik. Seine Fähigkeit, gleichmäßige und maßgeschneiderte dünne Folien herzustellen, macht es zu einer idealen Wahl für industrielle Anwendungen.
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