Gebraucht VEECO / DEKTAK K465 #9229665 zu verkaufen

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Hersteller
VEECO / DEKTAK
Modell
K465
ID: 9229665
MOCVD System Upgraded to K465i Process: InGaN Purging decontamination Includes: H2 Purifier N2 Purifier NH3 Purifier Turbo pump ACP-28 GB Pump ACP-28 HUB Pump ESA25D Process pump No Hard Disk Drives (Nexus & In-Situ system) No Operating system installed 2010 vintage.
VEECO/KDEKTAK VEECO/DEKTAK K465 Reaktor ist entworfen, um Schichten von Materialien für Dünnschichtabscheidungsanwendungen in der Halbleiterindustrie abzuscheiden. Es bietet eine präzise hochauflösende Kontrolle von Schichten so dünn wie 0,1 nm, um kritische dreidimensionale Strukturen zu schaffen. VEECO K465 Reaktor verfügt über einen vielseitigen Doppeltransportbalg, der verschiedene Arten von Substratübertragungsmechanismen wie Roboter, manuelle und Single-Wafer-Indexer-Konfigurationen aufnehmen kann. Der Transportbalg ermöglicht auch eine präzise und konsistente Integration mehrerer Reaktorkomponenten. Das fortschrittliche Design sorgt für eine saubere und stabile Umgebung in der Reaktionskammer, ideal für die Herstellung von hochwertigen Schichten. Auch das Vakuumsystem des DEKTAK K465 Reaktors trägt zu seiner effizienten Leistung bei. Gebaut mit einer Turbopumpe mit Diffusor und flüssigem Stickstoffschild Kühlfalle, erzeugt es hohe Vakuumwerte und reduziert die Pumpenausfallzeit. Dadurch kann der Reaktor schnell arbeiten und die sequentiellen Abscheidungsabläufe ohne Unterbrechung abschließen. K465 bietet auch fortschrittliche Substrat Heizmöglichkeiten. Es hat zwei verschiedene Substratzonen, nämlich Tief- und Hochtemperaturzonen, zur genauen Regelung der Substrattemperatur. Zusätzlich weisen die Zonen einen thermisch isolierten Suszeptor zur gleichmäßigen Erwärmung des Substrats auf. Der Reaktor verfügt über eine komplizierte Steuerlogik, die eine genaue und stabile Kontrolle beim Rampen der Temperaturen gewährleistet. Insgesamt ist VEECO/DEKTAK K465 ein präzises Dünnschichtabscheidungssystem, ideal für die Herstellung feiner dreidimensionaler Strukturen. Sein zuverlässiger Doppeltransportbalg sorgt für eine präzise Abscheidesteuerung und sein Vakuumsystem garantiert eine konstant saubere Umgebung. Darüber hinaus sorgen die Substratheizfähigkeiten für gleichmäßige Temperaturen rund um das Substrat. Insgesamt machen diese Eigenschaften es zu einem ausgezeichneten Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher Formen der Halbleitertechnologie.
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