Gebraucht VEECO / EMCORE D300 #9250874 zu verkaufen

VEECO / EMCORE D300
Hersteller
VEECO / EMCORE
Modell
D300
ID: 9250874
MOCVD System.
VEECO/EMCORE D300 ist ein HF-induktiv gekoppelter Plasmareaktor (ICP). Es ist ein Werkzeug zur Herstellung hochwertiger, reiner Polysilizium-Dünnfilme. Es ist für den vertikalen oder horizontalen Betrieb sowohl auf 8 „und 12“ Wafern und seine geringe Stellfläche macht es für die industrielle Produktion geeignet. VEECO D300 nutzt ICP, um ein stark ionisiertes Punktquellen-Plasma innerhalb der Reaktorkammer zu erzeugen. Das ICP erzeugt das Plasma durch Erzeugung eines hochfrequenten Feldes, das im Plasma Strom induziert und eine stark ionisierte Punktquelle erzeugt. Das stark ionisierte Punktquellen-Plasma ist von entscheidender Bedeutung, da es hohe Temperaturen, Elektronendichte und Gleichmäßigkeit innerhalb der Reaktorkammer fördert. EMCORE D300 ist mit drei verschiedenen Suszeptoren ausgestattet. Diese dienen zur Lagerung des Wafers, zur Temperaturregelung und zum Schutz des Siliziums vor dem Ätzen während der Plasmabelastung. Die Regeleinrichtung von D300 bietet eine präzise Gasdurchflussregelung, so dass der Benutzer die Durchflussraten genau anpassen und individuelle Rezepte für verschiedene Polysiliziumfolien erstellen kann. VEECO/EMCORE D300 ist auch mit einem Gasneutralisierungssystem ausgestattet, um die Auswirkungen der Nebenprodukte während des Polysiliziumprozesses zu minimieren. Der Reaktor soll gleichmäßige Temperatur, Elektronendichte und Prozessketten und Rezepte fördern. VEECO D300 ist mit einer erweiterten Zwei-Zonen-HF-Stromversorgungseinheit gebaut, die eine größere Kontrolle über das HF-Feld ermöglicht. Diese beiden Zonen können unabhängig voneinander eingestellt werden, um eine ideale, ausgewogene Umgebung für eine optimale Verarbeitung zu schaffen. EMCORE D300 verfügt zudem über eine hochwertige Quarzabscheidekammer, die den Wafer während des Prozesses umschließt und schützt. Die Abscheidekammer soll eine gleichmäßige Abscheidung gewährleisten und eventuelle Defekte am Wafer minimieren. Insgesamt bietet D300 einen robusten, effizienten ICP-Reaktor, der hochwertige, hochreine Polysiliziumfolien fördert. Die Regelmaschine mit geschlossenem Regelkreis und das Zweizonen-RF-Energieversorgungswerkzeug bieten zuverlässige und langlebige Leistung für industrielle Anwendungen. Seine Quarzabscheidungskammer sorgt für eine gleichmäßige Abscheidung und hilft, etwaige Defekte auf dem Wafer zu minimieren.
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