Gebraucht VEECO / EMCORE E300 GaN #9245409 zu verkaufen

Hersteller
VEECO / EMCORE
Modell
E300 GaN
ID: 9245409
Weinlese: 2005
MOCVD Ganzilla system Throughput: 21" x 2" / 8" x 3" Pass-through glovebox With load anti-chamber Components: Gate valve Gauges Valves MFC Pressure controllers (3) YOKOGAWA Temperature controllers (5) DC Power supplies (5) Gas lines (8) Bubbler manifolds Gas line purifiers: Hydrogen Inter Hydride EBARA A70W Series Multistage vacuum pump (2) Real temperature pyrometers (3) Sekidenko Pyrometers Includes: GaN InGaN AIGaN Missing parts: Primary heater Filaments ~2005 vintage.
VEECO/EMCORE E300 GaN ist ein Hochleistungs-Kompaktreaktor für Anwendungen wie Abscheidung und Ätzen von Galliumnitrid (GaN) und anderen Materialien, die hohe Abscheidungsraten und Gleichmäßigkeit erfordern. Das E300 ist ideal für hochwertige Dünnschichtbeschichtungen und nanoskalige Strukturen. Die E300 nutzt niederdruckinduktiv gekoppelte Plasmaquellen (ICP), die mit einer maximalen Leistung von 300 W betrieben werden. Diese Quellen sollen gleichmäßigere und konsistentere Prozesstemperaturen und Ionenenergien erreichen, wodurch eine höhere Abscheidungsrate und eine verbesserte Gleichmäßigkeit erreicht werden. Die Niederdruck-ICP-Quellen bieten einen entscheidenden Vorteil gegenüber subatmosphärischen Abscheidungssystemen, die große Gasmengen und lange Zykluszeiten erfordern. Das E300 ist in der Lage, die Substrattemperatur genau zu steuern und ermöglicht eine präzise und vorhersagbare Temperaturregelung für eine Vielzahl von Anwendungen. Der Boden der Kammer ist mit einer beheizten Stufe ausgestattet, die eine Temperaturregelung im Bereich der Umgebung bis 500 ° C ermöglicht. Dies ermöglicht das Niedertemperaturwachstum von empfindlichen Materialien, wie GaN und anderen III-Nitriden. Das Gerät ist ferner mit einer elektrostatischen Energiequelle ausgestattet, mit der das Substrat einer Reihe von Prozeßbedingungen unterworfen werden kann, wobei die Energie der auf das Substrat einfallenden Ionen und die Oberflächeneigenschaften der resultierenden Filmschicht variiert werden. Dies ermöglicht einzigartige Ätz- und Abscheidungsprozesse wie die energetisch selektive Abscheidung (ESD) und bietet eine größere Flexibilität bei der Verarbeitung von Nanopattern. Das E300 verfügt über ein modernes Steuerungssystem mit Echtzeit-Datenüberwachung, das eine präzise und zuverlässige Prozesssteuerung auch bei Hochtemperaturanwendungen bietet. Die integrierte Software ermöglicht einen vollautomatischen Betrieb und kann so konfiguriert werden, dass sie den spezifischen Bedürfnissen des Benutzers entspricht. Insgesamt ist VEECO E300 GaN eine kompakte und leistungsstarke Einheit, die speziell für die GaN-Verarbeitung entwickelt wurde. Seine Fähigkeit, die Substrattemperatur genau zu kontrollieren, sowie seine integrierte Palette an anspruchsvollen Steuerungssystemen machen es zu einer idealen Maschine für komplexe Abscheide- und Ätzprozesse, wie das Wachstum von hochwertigen GaN-Dünnschichtbeschichtungen und nanoskaligen Strukturen.
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