Gebraucht VEECO / EMCORE E400 #9265828 zu verkaufen
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VEECO/EMCORE E400 ist ein Elektronenstrahl (E-Strahl) -Verdampfung auf Basis von abwechselnd gepulsten Laserabscheidung (APLD) Reaktor. Diese fortschrittliche Abscheideausrüstung ermöglicht die präzise und wiederholbare Abscheidung von dünnen Schichten und Heterostrukturen für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter spintronische und optoelektronische Geräte. Das System bietet eine schnelle, robuste und zuverlässige Plattform zur Dünnschichtabscheidung mit hoher Kontrolle über Faktoren wie Abscheideraten und Substrattemperatur. Die Einheit weist eine Elektronenstrahlquelle zur Verdampfung des Zielmaterials und eine gepulste Laserquelle zur Steuerung der Abscheiderate auf. VEECO E400 verwendet eine einzigartige Alt Process Control Machine (APCS), um den Druck, das Vakuum, die Temperatur, die Abscheiderate und andere verwandte Parameter genau zu steuern. Es verfügt über einen fortschrittlichen thermoelektrischen Stufenregler und eine adaptive Growth Rate Control (AGRC), die ein hohes Maß an Kontrolle über die Wachstumsrate bieten. Das APCS nutzt einen Vorschubmechanismus, um die Wachstums- und Druckbedingungen kontinuierlich an die gewünschte Wachstumsrate anzupassen. Die E-Strahlquelle ist in die Kammer integriert und verfügt über einen dreiachsigen Manipulator, der eine präzise Bewegungssteuerung für Substrate unterschiedlicher Größe und Form ermöglicht. Der 11-Achsen-Manipulator des Werkzeugs steuert die Abscheidungsparameter in Echtzeit und liefert Feedback-Informationen, die eine schnelle, einfache und zuverlässige Dünnschichtabscheidung ermöglichen. Die APLD sorgt für eine zuverlässige und wiederholbare Abscheidung von dicken Schichten auf Sub-Nanometer Dicke. Die Vorrichtung ermöglicht auch die Abscheidung verschiedener Materialien, darunter Metalle, Oxide, Nitride, Polymere und andere organische Materialien. EMCORE E400 ist mit verschiedenen In-situ-Überwachungssystemen wie Rasterelektronenmikroskopie (SEM) und Flugzeit-Sekundär-Ionen-Massenspektren (Tof-SIMS) ausgestattet. Dies gewährleistet eine tiefgreifende Charakterisierung des abgeschiedenen Materials und ermöglicht eine Optimierung der Abscheidungsparameter. Die Kombination aus APLD und SEM ermöglicht das hochpräzise und wiederholbare Stapeln von Schichten unterschiedlicher Materialien und Höhe sowie die Untersuchung von Mikrostrukturen des abgeschiedenen Materials. Abschließend ist E400 ein vielseitiges Abscheidungswerkzeug, das eine kontrollierte und detaillierte Abscheidung von dünnen Schichten und Heterostrukturen auf verschiedenen Substraten ermöglicht. Die fortschrittliche Prozesssteuerung in Kombination mit einem vielseitigen Manipulator und In-situ-Charakterisierungssystemen bieten eine zuverlässige Plattform für die Abscheidung von E-Strahlen. Dieses Modell ist eine ideale Wahl für viele Anwendungen und ermöglicht eine schnelle, präzise und wiederholbare Abscheidung von dünnen Schichten für spintronische und optoelektronische Geräte.
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