Gebraucht VEECO / EMCORE E450 #9363532 zu verkaufen
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ID: 9363532
Wafergröße: 2"
Systems, 2"
Wafer capacity: Up to (48) wafers
Group III MO sources:
(2) TMGa
(2) TMIn
(2) TMAl
Group V hydride sources:
(2) AsH3
PH3
Dopants MO:
CP2Mg
CBr4
Dopants hydride: H2/SiH4
(2) NESLAB Baths
(7) Lorex piezocons
2-Channels for TMI expendable to 4 (For 2 additional TMG)
EBARA A70W Pump
Exhaust system:
(2) Particle filters
Housing
Phosphorus trap
P-Trap automatic regeneration system loadlock: Loadlock chamber
Glove box
Moisture monitor
Wafer carrier transfer robotic system heater
(3) Heater elements:
Inner
Middle
Outer graphite heater temperature control
Temperature monitor 3-point T/C
YOKOGAWA Controller
3-Point SEKIDENKO pyrometer
Gas monitoring:
Gas leak monitor
Toxic gas
H2 Gas monitor system
Epi Windows 2000.
VEECO/EMCORE E450 Epitaxialreaktor ist ein hochentwickeltes CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das entwickelt wurde, um Hochleistungs-Halbleiterbauelemente mit maximaler Effizienz zu optimieren. Das System verfügt über eine einzigartige Hochtemperatur-Hochdruck-Prozesskammer, die in der Lage ist, Halbleiterfilme höchster Qualität in kürzester Zeit herzustellen. VEECO E450 Reaktor wurde mit einem Single-Lift, Eisen-Basis Ofen Konstruktion für maximale Effizienz und Zuverlässigkeit konzipiert. Die erweiterte Dual-Vaporizer-Steuereinheit ist in der Lage, sowohl unabhängige als auch gleichzeitige Verdampfer-Operationen zur präzisen Temperaturregelung der Prozessgase durchzuführen. Die verbesserte Steuerungsmaschine von EMCORE E450 ermöglicht volle Flexibilität bei der Steuerung von Prozessgasströmen und vorprogrammierten Rezepten für optimales epitaktisches Wachstum. Ein Inertgas gereinigter Stickstoffstrom wird verwendet, um eine ultra-saubere Prozessumgebung als Teil des fortschrittlichen Vakuumsteuerungswerkzeugs zu erhalten, wodurch ausgezeichnete Geräteerträge gewährleistet werden. Der integrierte Wasserkreislaufofen sorgt für eine optimale Temperaturgleichförmigkeit in der gesamten Kammer und trägt dazu bei, Verschmutzungen und Partikeleinbrüche aus der Prozessumgebung zu reduzieren. Der hochmoderne Reaktor unterstützt Substratgrößen bis zu einem Durchmesser von 6 Zoll und verwendet einen Standard-6-Zoll-Waferträger für eine einfache Probenbeladung. Das einzigartige „Head-in“ Mech-Design von E450 sorgt auch für schnelles und einfaches Be- und Entladen von Proben und maximiert die Gleichmäßigkeit der Folienabscheidung. Das Feinoxidätzverfahren nutzt ein einzigartiges, ungleichmäßiges Profildesign, um die Ätzrate zu erhöhen, ohne die Gleichmäßigkeit der Folie zu beeinträchtigen oder Oberflächenschäden zu verursachen. VEECO/EMCORE E450 gilt als unverzichtbares Werkzeug für die Herstellung hochwertiger und robuster Halbleiterbauelemente. Das fortschrittliche Hochtemperatur-Prozesssteuerungsmodell, Inertgasreinigungssteuerungen und die ultraleise Vakuumausrüstung sorgen für eine ultrareine Umgebung für maximale Erträge und Gerätestabilität. Darüber hinaus bietet der eingebaute Ofen maximale Temperatur- und Gleichmäßigkeitskontrolle über den gesamten Bereich der Prozesstemperaturen. Alle diese Funktionen kombinieren, um VEECO E450 Epitaxialreaktor zu einer beispiellosen Plattform für die fortschrittliche Geräteherstellung zu machen.
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