Gebraucht VEECO / EMCORE K465i #293587351 zu verkaufen

VEECO/EMCORE K465i ist ein CVD-Reaktor (Single-Wafer Chemical Vapor Deposition), der bei der Herstellung von Halbleitern eingesetzt wird. Es ist in der Lage, gesunde, gleichmäßige Schichtdicke aus Siliciumoxynitrid (SiON) und Siliciumnitrid (SiN) mit ausgezeichneter Stufendeckung bis zu 100 nm Filmdicke abzuscheiden. Die wiederholbare Abscheideleistung von VEECO K465i sorgt für überlegene Wärmeleitfähigkeit, optische oder mechanische Eigenschaften für jede Anwendung. Der Reaktor kann unter anderem Reaktivgase wie NH3 und SiH4 zur Abscheidung verwenden. Es ist für hohen Durchsatz ausgelegt und gewährleistet eine gleichmäßige Filmzusammensetzung über einen gesamten Wafer mit schnellen, wiederholbaren Temperaturrampenraten. Der Gesamtdurchsatz liegt typischerweise zwischen 50W-150W mit anhaltenden Temperaturen von bis zu 1000 ° C. EMCORE K465i erfordert präzise und präzise Temperaturrampen für die Abscheidungssteuerung. Sie erfolgt durch Steuerung der genauen Sequenzierung der Heizelemente, des Kammerdrucks und der Strömungsgeschwindigkeit reaktiver Gase. Es verwendet zwei getrennte Prozessgasquellen. Eine ist eine trockene Stickstoff-Trockengasquelle, die verwendet wird, um den Prozess durch eine kryogene Pumpe zu kühlen, um das Gas schnell zu kühlen und eine stabile Kammertemperatur aufrechtzuerhalten. Die zweite liefert reaktive Gase wie H2, N2 und NH3 und ein Katalysatorgas wie SiH4. Durch die Regelung des Verhältnisses der beiden Gase kann eine präzise Materialabscheidungsrate und -gleichmäßigkeit erzielt werden. K465i umfasst mehrere wichtige Standardmerkmale wie ein Keramiksubstratpaddel, ein Pyrometer zur Messung der momentanen Substrattemperatur, eine mechanische Spannfutterschwingung und einen Umgebungssensor zur Endpunkterkennung. Alle Komponenten sind für eine einfache Integration in Fertigungsanlagen ausgelegt. VEECO/EMCORE K465i bietet Präzision und Gleichmäßigkeit in Abscheidungsprozessen. Es bietet einen hohen Durchsatz mit präzisen und genauen Temperaturrampenraten und ausgezeichneter Schrittabdeckung. Mit Funktionen wie einfacher Integration, keramischem Substratpaddel, Pyrometer, mechanischer Futterschwingung und Umgebungssensoren bietet VEECO K465i eine effiziente und zuverlässige Abscheidung von Siliziumnitrid- und Siliziumoxynitrid-Filmen in Halbleiterherstellungsprozessen.