Gebraucht VEECO / EMCORE K465i #9012796 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9012796
Weinlese: 2010
MOCVD system
GaN
Max temp 1250C degree set point
8 PSU
DRT (bow, real temp) (2) Real temp
8 x MO lines
NH3, SiH4
(2) MO concentration control
(2) Ebara process pump
Automated loading chamber
Nexus control system
H2 + NH3 gas monitor
N2+NH3 POU purifiers
(2) Johson Matthey V-480 H2 Pd cell purifiers
(2) hygrometers
(6) water cooled MO baths
Fully automated metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) system designed for the production of high-brightness light-emitting diodes
Can accommodate up to (45) 2" substrates (or 1x8") in one process
Uses FlowFlange technology designed to create a uniform alkyl and hydride flow across all wafers
Temperature uniformity by (3) separate heating zones controlled by RealTemp200 systems and additional pyrometer
Wafer curvature is monitored by dedicated deflectometer
Fully robotized carrier handling tool allows for continuous operation
All manuals and schematics for reactor from original Veeco purchase
(3) brand-new wafer carriers/susceptors
K465i growth chamber and Uniform Flow Flange assembly
Rotary Robot Arm Transfer assembly (robot, end effector, robot chamber, buffer chamber, gate valves, controller, etc.)
Laminar flowhood wafer loading platform
Complete gas panel (NH3/N2/H2, MO source lines, SiH4 source line), injector block
Ferrofludic turbodisc rotation assembly
Turbodisc controller
(2 sets) Veeco K465 heater assembly and filaments (1 installed in chamber, 1 full set as a spare)
(2) Ebara ESA-25D process pumps
Load lock pump
(2) high-capacity particle filter assemblies.
(2) particle filter elements
Reactor pressure throttle valve
(8) DC power supplies for filaments
Eurotherm controllers
Reactor control CPU, Servo CPU, (2) PC monitors, keyboard and mouse
(2) RealTemp 200 Modeling System with dedicated CPU
(1) DRT-210 Real-Time Monitoring System with spare CPU
(4) Lauda Model 215 bubbler baths
(2) Lauda Model 235 bubbler baths
(2) Lytron Heat Exchangers for reactor
Growth chamber baratron gauge
(2) – Piezocons
Flow Flange Lift Cart
H2 Pd purifier cabinet model: HP 200/400 V-Purge
NH3 Purifier - Aeronex 10M
N2 Purifier - Aeronex 10M
Hygrometer Assy 2-channel Panametrics
CM4 Gas monitor
Spare Baratron (pressure manometer) and MFC
(3) spare Eurotherm controllers
(2 cases, 1 partial) MassVac filter elements
2010 vintage.
VEECO/EMCORE K465i Medium Current Electron Beam (EB) Wafer Technologie Reaktor ist ein modernes Gerät in Halbleiter- und Display-Industrie für die Herstellung von dünnen Schichten verwendet. Es verwendet eine Mischung aus Photolithographie, elektronischen Strahl (EB) Lithographie-Technologie und Verdampfungstechniken. Dieser Reaktor ist mit einer Elektronenquelle, einer Strahlenergieversorgung, einer Verdampfungsquelle und einer maskenlosen lithographischen Stufe ausgestattet. VEECO K465i ist für Hochstromprozesse bis 600 mA ausgelegt. Diese High-End-Technologie ermöglicht es Ingenieuren, Gleichmäßigkeit bei der Strukturierung und Dünnschichtwachstum auf mehreren Substraten in einem Produktionsschritt zu erreichen. Es ist auch in der Lage, mehrere Materialien, wie Elektronenabscheidungsmaterialien, Metall und polykristalline Filme zu verarbeiten. EMCORE K465i ist mit einer Gleichstrom (DC) -Filtertechnologie ausgestattet, die vor Lichtbogen schützt, was zu einer verbesserten Prozesskonsistenz führt. Die Elektronenquelle in K465i ist ein Elektronenemitter auf Pistolenbasis, der von einer programmierbaren Konstantspannungsversorgung gespeist wird. Dadurch wird eine gleichbleibende Leistung ohne Ausgangswelligkeit gewährleistet. VEECO/EMCORE K465i EB Wafertechnologie Reaktor bietet auch eine vakuumdichte Konstruktion, einschließlich Türen, um Verschmutzungen der Innenraumkomponenten zu verhindern. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über ein automatisiertes Be- und Entladesystem, das mit einem mit Wafern vorbelasteten Tablett für einen effizienten Betrieb ausgestattet ist. VEECO K465i EB Wafertechnologie Reaktor verfügt auch über eine eingebaute Temperaturregeleinheit, die einheitliche Prozesstemperatur gewährleistet. Auf diese Weise wird verhindert, dass es zu einer Verschlechterung der Verarbeitungsergebnisse sowie zu einem thermischen Auslauf kommt. Es bietet auch eine zuverlässige Controller-Maschine und eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine schnelle und einfache Anpassung der Parameter ermöglicht. Abschließend ist EMCORE K465i Medium Current Electron Beam (EB) Wafer Technologie Reaktor ist ein fortschrittliches und zuverlässiges Werkzeug für die Herstellung von dünnen Schichten. Es bietet eine ausgeklügelte Filtrationstechnologie, eine hochzuverlässige Elektronenquelle und eine Temperaturkontrolle und ist damit der ideale Mittelstrom-Wafertechnologie-Reaktor zur Herstellung von Dünnschichtschaltungen und anderen Materialien.
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