Gebraucht VEECO / EMCORE K465i #9043779 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9043779
MOCVD-GaN system, 6"
K-MOCVD
K465i GaN MOCVD reactor
VEECO TURBODISC - K465i GaN MOCVD
Reactor Cart Assembly - K465i GaN: 1099755-1001
K465i GaN growth chamber
K465i Uniform Flow Flange assembly
Water-cooled Turbodisc susceptorless spindle rotation system including integrated errofluidic rotation mechanism
Reactor temperature management system including water to water heat exchanger with temperature flow and water level alarms
Water cooled baseplate assembly
MFC purged eight position viewport for in-situ measurements
Mechanical switch gauge for over pressure monitoring
Veeco K465 Heater Assembly
Proprietary heater filament
Three zone resistive heater assembly
High temperature heat shields, insulators, and electrical feedthroughs
Wafer Handling Assembly - K465i GaN: 1095778-4202
Laminar Flowhood
Integrated laminar flowhood wafer loading platform for easy wafer loading
Growth Chamber Exhaust System (Exhaust to Top)
1.5" exhaust line
Ebara ESA-25D process pumps
Manual and pneumatic ball valves
High capacity particle filter assembly
Leak detector port
Electronic pressure transducer
Reactor pressure control throttling valve
Overpressure protection via switch gauge
User Interface - Swing Arm: 1094894-3001
(2) Monitors
Keyboard/Mouse
Ergonomic Swing Arm Attached to Tool
Rotary Transfer Assembly - K465i GaN: 1094841-2001
High vacuum aluminum transfer chamber with viewports
Single modular dwell station with 2-carrier capacity
Pneumatically controlled, interlocked rectangular L-VAT door for isolation between growth chamber and transfer chamber
Vacuum robot with end effector for wafer carrier transfer
Pressure measurement of loadlock chamber
Mechanical switch gauge for overpressure monitoring
Electronics Control Module - K465i GaN: 1091932-4213
(8) DC power supplies for heater power
Digital devices on industry-standard DeviceNet digital network
Software integrated with Omron PLC
Standardized cables and interconnects
Capable of facilities UPS (customer supplied)
H2 Detector included
Circuit Breaker Panel 380 VAC - K465i GaN: 1091831-4004
Source Delivery and Reactor Housing Module - K465i
Custom Configuration - 1093574-****
Modular Reconfigurable Gas Panel Includes:
Supply Gas Regulator Slices
Hydride Dopants
Vaccum/Vent Leak Check Assembly
Supply Gas Assembly
Hydride / Shroud Assembly
Flow Panel with Injector Block
Phantom Line option
Bubbler Slices
Temperature Regulating Liquid Baths
Bubblers Manifold Type: Dual Switching (Nitrogen & Hydrogen)
Process module custom characteristics listing
Reactor Interface Flowpanel - K465i
Direct Inject Hydride System
Metal sealed source mass flow controllers
Alkyl injector block phantom MFC option
Supply Gas Sub-Assembly
GaN Standard: 2xN2, 1xH2 regulator, 2 N2/H2
Manual valve slice with switch gauge & regulator
Label NH3
Supply Gas Subassembly - Slice #2
Manual valve slice with switch gauge & regulator
Supply Gas Subassembly - Slice #4
Manual valve slice with switch gauge & regulator
Option for SiH4 or Si2H6 or H2Se or H2S
Supply Gas Subassembly - Slice #5
Empty
Gas Source - Slice #3
Dilution with isolation valve, dual push gas
Option for SiH4 or Si2H6
Bubbler Slice Position #1 Empty
Bubbler Slice Position #2 Configuration
Bubbler #2: TMAl
Slice#2: Dilution, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Integrated Spool piece for Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #3 Configuration
Bubbler #3: TEGa
Slice#3: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Integrated Spool piece for Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #4 Configuration
Bubbler #4: TMGa
Slice#4: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Integrated Spool piece for Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #5 Configuration
Bubbler #5: TMGa
Slice#5: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Integrated Spool piece for Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #6 Configuration
Bubbler #6: Customer Specified
Slice#6: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Integrated Spool piece for Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #7 Configuration
Bubbler #7: Cp2Mg
Slice#7: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Integrated Spool piece for Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #8 Configuration
Bubbler #8: TMIn
Slice#8: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Binary Gas Monitor.
Bubbler Slice Position #9 Configuration
Bubbler #9: TMIn
Slice#9: Standard, dual gas feed, single bubbler
Multi-Valve High-Purity Welded Manifold.
Metal Sealed Mass Flow controller(s).
Metal Sealed Integrated Pressure Controller(s).
Binary Gas Monitor.
Liquid Refrigerator Baths - Quantity = 4
Water cooled version Model Lauda 215
Operating temperature range: -30 degrees C to 200 degrees C.
Adjustable over-temperature protection.
Bath cavity dimensions: 8.5" x 8.5" x 9.8"
Liquid Refrigerator Baths - Quantity = 2
Water cooled version Model Lauda 235
Operating temperature range: -30 degrees C to 200 degrees C.
Adjustable over-temperature protection.
Bath cavity dimensions: 13.8" x 11.8" x 9.8"
In-Situ Monitoring System 1096010-1036
(1) RealTemp 200 Monitoring System - Quantity
Combined pyrometer and reflectometer unit to enable Emissivity Corrected temperature measurement and control.
Accurate reflectance and temperature measurement of individual wafers.
(2) DRT-210 Real-time In-situ Monitoring Systems
Integrated Deflectometer, Reflectometer, and Thermometer to monitor:
Curvature of Epi-wafer
Layer Thickness and Refractive Index
Wafer Pocket Temperature with Wafer Reflection Compensation
Integrated Electronics Assembly
Dedicated computer and In-Situ Interface Controller
Advanced software package for data analysis.
High Speed Data Acquisition for Wafer Differentiation
Auto Start/Stop integrated with Veeco’s RecipeX Software.
Wafer Carrier for K465i GaN
(2) Veeco P/N 1200232
5 X 6"
Consumables Kit 1093608-1004
Install-Phase consumable parts
Gaskets, o-rings, screws, nuts, washers
1/8" SS Bubbler Legs - Quantity = 8 sets
Server PC for Nexus Datalogging (Rackmount) - 1094416
NEXUS Control & Monitoring Software - 1094417
Nexus includes:
Spreadsheet Recipe generation
Capable of nested recipes
Reduced complexity
Easy editing - Excel style
Easy porting from system to system
Automatic Calculations simplifying
Injector block parameters
Bubbler parameters - minimize source material use
Operator Interface
One button execution
Variety of selectable monitoring functions
Customer user-defined privileges
Maintenance
Automatic Paretos
redictive maintenance
Remote Access
Via LAN
Data Management
Access to data files by date or run
Data manipulation / viewing of all parameters
Industrial-Grade Server
Advantech AIMB-766G2
Core 2 Quad, Q9400, 2.66GHz
RAM, 240pin DIMM, DDR2, 2GB
HDD, 250GB, SATA II Enterprise
CD/DVD RW DRIVE
Windows Server 2003, Web Edition
Systems utilize shared scrubber. The scrubber is not included
CE Mark
2010 vintage.
VEECO/EMCORE K465i ist ein Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor, der für Industrie- und Forschungsanwendungen entwickelt wurde, die Präzisionsätz- und Abscheidungsprozesse erfordern. Die Kammer ist als Dual-RF-Koaxialausführung ausgebildet, wobei zwei unabhängige HF-Quellen zum Ätzen und Abscheiden verwendet werden. Ein integrierter Substrat-Kühlkörper sorgt für eine gleichmäßige, temperaturgesteuerte Abscheidung. VEECO K465i ist mit EtchPlus-Technologie ausgestattet, die präzise und wiederholbare Ätzprozesse mit gleichmäßigen Plasmadichteprofilen nach unten bietet. Es bietet auch eine breite Palette von Folieneigenschaften, einschließlich hochwertiger optischer Eigenschaften und ausgezeichneter Folieneinheitlichkeit und Schrittabdeckung. Die Kammer von EMCORE K465i ist für die Kompatibilität mit verschiedenen Wafergrößen und Materialien konzipiert und enthält Quarzschildplatten, um direkte EMI-Störungen zu reduzieren. Es ist in der Lage, Einzelwaferprozesse und Wiederholungsprozesse auf Waferebene durchzuführen. Der Reaktor kann auch für spezifische Prozessanforderungen mit konfigurierbaren Hardware- und Softwareoptionen angepasst werden. K465i verfügt über mehrere Gaseinspritzöffnungen und eine vollautomatische Gassteuerung zur präzisen und intimen Vermischung von Gasen. Dies sorgt für optimale Wechselwirkungen zwischen Gasen und Plasma, reduziert Partikelverunreinigungen und entlädt ineffiziente Reaktions-Nebenprodukte. Der Reaktor ist für eine einfache Wartung ausgelegt, mit einem externen Gaseinlasssystem, das verhindert, dass die Quelle während der Wartung von der Einheit getrennt wird. Der Reaktor ist mit einer erweiterten Diagnosesuite ausgestattet, die Spektroskopie-, Bildgebungs- und Partikelanalysesysteme für Feedback zum Prozessfortschritt und zur Produktqualität umfasst. Eine Abgasmaschine mit höhenverstellbaren Abgasöffnungen ermöglicht eine effektive Entfernung von Prozessumgehungsprodukten aus der Kammer, wodurch die Reinraumverschmutzung reduziert wird. Darüber hinaus ist VEECO/EMCORE K465i auf eine verbesserte Sicherheit und Ergonomie mit umfassenden Diagnose- und Sicherheitsfunktionen sowie einer intuitiven Bedienoberfläche ausgelegt. Insgesamt ist VEECO K465i ein fortschrittlicher PECVD-Reaktor, der eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für eine Vielzahl von Industrie- und Forschungsanwendungen bietet.
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