Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc 300 II GaN #9245320 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reactor ist ein spezialisiertes, hochmodernes Produktionswerkzeug für das Wachstum von Galliumnitrid (GaN) und Gruppe-III-Nitrid-basierten Epitaxieschichten. VEECO TurboDisc 300 II GaN Reactor verwendet eine hocheffiziente superzyklonische Düse in seiner Prozesskammer, um ein zuverlässiges und wirtschaftliches Wachstum bei einer möglichst hohen Durchsatzrate zu ermöglichen. Sein einstellbarer Druckregler ermöglicht eine präzise Kontrolle des Drucks innerhalb der Kammer und ermöglicht ein dickes Filmwachstum mit einer viel schnelleren Geschwindigkeit als frühere Generationen von GaN-Reaktoren und ist somit ideal für die Serienproduktion. Darüber hinaus ist der EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reaktor speziell für einen zuverlässigen Betrieb unter rauen industriellen Bedingungen mit einer pflegeleichten Gesamtmetallkonstruktion konzipiert. TurboDisc 300 II GaN Reactor verfügt auch über einen fortschrittlichen Hochtemperaturbereich, optisch isolierten, pyrolytischen Graphit-Suszeptor, der die Temperaturgleichförmigkeit über die Oberfläche des Wafers beibehält. Die Kombination aus Temperaturleistung und zyklonischem Balg-Diffusionssystem führt zu einer außergewöhnlichen Partikelkontrolle und damit zu reduzierten Fehlergenerationen. Darüber hinaus verfügt die TurboDisc 300 II über ein Frontöffnungsdesign, das einfache und schnelle Übergänge zwischen Prozesskammern und Kühlplatten ermöglicht. Dies eröffnet fortgeschrittene Prozessmöglichkeiten, wie erhöhte Dotierstoffkonzentrationen, reduzierte thermische Diffusion entlang der Wachstumsoberfläche, verbesserte Plasmagleichförmigkeit und bessere Kontrolle der Oberflächenchemie. VEECO/EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reactor profitiert auch von einer fortschrittlichen hyperspektralen Technologie, die die höchste Auflösung für die Visualisierung verschiedener Wachstumsschichten bietet. Diese Technologie bietet eine Echtzeitansicht der GaN-Schichten während des Wachstumsprozesses und ermöglicht eine hochgenaue Kontrolle der Schichtgleichmäßigkeit und -dicke. Schließlich bietet das VEECO TurboDisc 300 II GaN Reactor System dank seiner leistungsstarken Vor- und Nachprozesscharakterisierungsfunktionen auch beispiellose Prozessdiagnosefunktionen, sodass die Betreiber während des Wachstumsprozesses weitere Einblicke in die verschiedenen chemischen und strukturellen Parameter. Insgesamt ist EMCORE TurboDisc 300 II GaN Reactor ein leistungsfähiges und zuverlässiges Produktionswerkzeug, das entwickelt wurde, um die Wachstumseffizienz und Gleichmäßigkeit der GaN-Schicht zu optimieren und eine industrialisierte Produktion von GaN-basierten Materialien zu ermöglichen.