Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375085 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor ist ein hochmoderner Hochleistungsreaktor, der Metallnitridfilme herstellen kann. Das K465i basiert auf der patentierten TurboDisc-Technologie von VEECO und ist ein Einwafer-System zur Abscheidung von vertikalen Reaktionskammern, das entwickelt wurde, um Filme mit Gleichmäßigkeit und Präzision herzustellen, die mit anderen Abscheidungsmethoden nicht erreichbar sind. Mit seinen senkrechten oberen und unteren Wellen kann der K465i mehrere Wafer gleichzeitig verarbeiten, während seine fortschrittlichen Abscheidungssteuerungen und das Kammerdesign eine verbesserte Leistung in Produktionsumgebungen bieten. Die TurboDisc K465i verwendet eine zweistufige hochdichte Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmaquelle zusammen mit einem neuartigen HF-Bias-System für erhöhte Abscheidungsrate. Der ECR mit hoher Dichte sorgt für eine höhere Ionisierung und effiziente Radikalproduktion und ermöglicht eine bessere Oberflächendeckung. Das HF-Biasystem erhöht die Ionisationswerte der im Plasma vorhandenen energetischen Spezies weiter. Diese kombinierten Merkmale geben dem K465i seine bemerkenswerte Abscheidungsrate von bis zu 250 Å/min. Die K465i ist ideal für die Abscheidung von GaN, Galliumoxid (Ga2O3) und stickstoffdotierten Galliumoxid (GaN: O) -Filmen. Es hat einen Basiskammerdruck von 2 × 10-9 Torr, und fortschrittliche Prozessschritte können niedrigere Drücke um 1 × 10-8 Torr erreichen. Die Ladekammer kann bis zu 6 ″ Wafer handhaben und kann bis zu 350mm Substrathandhabung bieten. Der Reaktor bietet auch eine umfassende Palette von Steuerungsmöglichkeiten, wie vier Quarzlampen für die Substratbeleuchtung, Schaltplatten für den geometrischen Effektausgleich und Gaseinlässe für die reaktive Artenkontrolle. Dies gewährleistet eine Echtzeit-Prozessüberwachung und genaue Abscheidezyklen. Darüber hinaus ermöglicht seine benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche eine einfache Reaktionstechnik. Die TurboDisc K465i ist eine technologisch fortschrittliche und zuverlässige Wahl für die Herstellung von hochwertigen Metallnitrid-Folien. Mit seinen einzigartigen Eigenschaften und seinem innovativen Design ist es die ideale Wahl für Anwendungen wie LEDs, Sensoren, Speicher und Leistungshalbleiter.