Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375121 zu verkaufen

VEECO TurboDisc K465i Galliumnitrid (GaN) Reaktor ist ein Mikrowellengerät für epitaktisches Wachstum von Nitrid-Verbindung Halbleitermaterialien entwickelt. Das Gerät ist mit zwei K465i GaN-Reaktoren ausgestattet, was es zu einem leistungsstarken und zuverlässigen Zweikammer-Produktionswerkzeug macht. Der K465i Reaktor kombiniert modernste klystron-basierte Mikrowellentechnologie mit fortschrittlicher Computersteuerung und -überwachung. Durch diese Kombination ist es in der Lage, eine hochgenaue Mikrowellenleistungsverteilung, Überwachung und Steuerung bereitzustellen, um eine optimale Gleichmäßigkeit auf dem Wafer zu erzielen und niedrige Temperaturen zu fördern. Der K465i Reaktor verfügt zudem über einen kontrollierbaren Substrattemperaturbereich von -10 ° C bis + 450 ° C und ein beheiztes Quarzrohr, das auf Seitenwandheizschlangen verzichtet. Die K465i ist in der Lage, homogenes Wachstum über große Substratgrößen aufgrund von variablem Fokus, gleichmäßigem Hohlraumstrahlungsmuster und linearem variablem Feldprofil. Das V-förmige Hohlraumdesign bietet Weitwinkelabdeckung und ermöglicht eine verbesserte Gleichmäßigkeit in der gesamten Epitaxieschicht, während das digitale Steuersystem eine bessere Filtersteuerung erreicht. Die Advanced Substrate Heating Unit (ASHS) ermöglicht eine präzise thermische Budgetsteuerung ohne Inertgasemission, da der Wafer in einer sauerstofffreien Umgebung erwärmt wird. Die ASHS bietet auch volle digitale Temperaturregelung, genauere Substrattemperaturmessung sowie automatische Abstimmung, um die bestmöglichen Ergebnisse zu gewährleisten. Weitere Merkmale sind eine fortschrittliche Verriegelungsmaschine, die absolute Flexibilität in einer Vielzahl von Konfigurationen ermöglicht, und kontaktlose elektrische Verriegelungsstifte, um versehentliches Eindringen von Fremdmaterialien zu verhindern. Der K465i GaN Reaktor wird auch mit Mikrowellenmachtüberwachungssystemen ausgestattet, um effiziente Mikrowellenübertragung und genaue Machtkopplung zu sichern. Darüber hinaus verfügt der Empfänger über Vakuum-Sensoranschlüsse, die eine Echtzeitüberwachung und eine hohe absolute Druckgenauigkeit ermöglichen. VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reaktor ist ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug für die Herstellung hochwertiger Epitaxiewafer. Es bietet optimierte Gleichmäßigkeit, präzise Temperaturregelung, ausgezeichnete Substratheizung und fortschrittliche digitale Steuerungssysteme. Diese Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für jedes zusammengesetzte Halbleiterepitaxieprojekt.