Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375122 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN ist ein Abscheidungsreaktor der nächsten Generation, der speziell für GaN-Materialanwendungen entwickelt wurde. Es ist eine leistungsstarke, extrem leistungsstarke Plattform, um Materialien optimal für diese Anwendungen anzubauen. Mit fortschrittlichen Abscheidungstechnologien und einer optimierten Reaktorplattform bietet es branchenführende Abscheidegeschwindigkeiten und eine unschlagbare Folieneinheitlichkeit und Prozesskontrolle. Die K465i setzt modernste induktiv gekoppelte Plasmatechnologie ein, ein Schlüsselwerkzeug zur Optimierung der fortschrittlichen Materialbearbeitung. Diese Art von Plasmaquelle ist hocheffizient und ideal für Materialabscheidungsprozesse, wie sie für GaN-Anwendungen verwendet werden. Es bietet hochdichtes Plasma mit schnellerer Ionisation als herkömmliche Quellen und verbesserter Ionisationsstabilität, was eine präzise Abscheidung von GaN-Dünnschichten ermöglicht. Die K465i verfügt auch über eine variable Frequenzsteuerung der Plasmaquelle, so dass Benutzer die Energie der im Plasma angeregten und ionisierten Moleküle genau steuern können. Diese verbesserte Steuerung ermöglicht eine präzise Steuerung des Abscheidungsprozesses und ermöglicht unglaublich gleichmäßige und hoch ausgerichtete Molekülstrukturen. Darüber hinaus ermöglicht die Hochleistungsquelle im K465i hohe Abscheideraten, die für die Optimierung von Anwendungen im Produktionsmaßstab unerlässlich sind. Das K465i ist mit einer Hot-Walled Dual-Showerhead-Konfiguration ausgestattet, die zwei Plasmaquellen-Konfigurationen und unabhängig gesteuerte Abscheideraten ermöglicht. Dies ermöglicht eine unabhängige und gleichzeitige Abscheidung von Folien und ihren schichtabhängigen Parametern bei hohen Abscheidegeschwindigkeiten. Zusätzlich kann das Duschkopfdesign für die Konstruktion kristalliner Struktur mit stark verbesserter Merkmalskontrolle sowohl der Schichtstapelstruktur als auch der Schichtdicken verwendet werden. Das K465i ist auch unter anspruchsvollen Bedingungen hocheffizient ausgelegt. Es ist in der Lage, bei hohen Temperaturen zu arbeiten, die Produktionszykluszeit zu reduzieren und die Betriebskosten zu senken. Es verfügt über ein modernes Kühlsystem, das die Notwendigkeit einer Vakuumpumpe überflüssig macht, was zu seinem Wirkungsgrad beiträgt. Insgesamt ist VEECO TurboDisc K465i GaN ein Abscheidereaktor der nächsten Generation, der speziell für GaN-Anwendungen entwickelt wurde und eine hervorragende Leistung und Prozesskontrolle bietet. Es verwendet fortschrittliche Technologien wie induktiv gekoppeltes Plasma, variable Frequenzsteuerung und eine heißwandige Duschkopfkonfiguration, um die Effizienz des Abscheidungsprozesses zu maximieren und hohe Abscheideraten bei außergewöhnlich gleichmäßiger Filmqualität zu erreichen. Damit ist sie eine ideale Plattform für die GaN-Materialbearbeitung.