Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375133 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reactor ist ein fortschrittliches Plasmabearbeitungssystem zur Abscheidung von dünnen Filmen für die Halbleiterbauelementherstellung. Es handelt sich um ein Hochdurchsatz-Hochdurchsatzsystem, das aus einer linearmotorischen, mehrkammerigen Source-Shutter-Anordnung mit modernstem Gasstromregler und Temperaturregler besteht. Der Reaktor verwendet ein proprietäres Verfahren, das ein einzigartiges Duschkopfdesign und eine optimierte Plasmachemie kombiniert, um sehr gleichmäßige und konforme Folien mit überlegenem Kantenprofil und außergewöhnlicher Substrat-Temperaturregelung zu liefern. Das K465i nutzt eine Hochleistungs-GaN-Hochfrequenzquelle (RF) mit voll integriertem Anpassungsnetz und kann entweder mit einer konstanten 25 MHz oder variabler Frequenz bis zu 60 MHz arbeiten. Mit seinem leistungsstarken HF-Generator kann das K465i Plasma für verschiedene Abscheidungsprozesse, einschließlich Oxid, Nitrid und Metalle, mit niedriger Temperatur und hohem Durchsatz erzeugen. Das System nutzt innovative Plasmaquellen, einschließlich der proprietären TurboDisc-Technologie, um eine hohe Gleichmäßigkeit und Konformität auf großen Substraten zu gewährleisten. Das integrierte Matching-Netzwerk sorgt für eine optimierte Stromversorgung und sorgt für Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Abscheidungsergebnisse. Die Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Temperaturleistung der K465i ermöglichen es, Prozessergebnisse zu erhalten, die mit teureren und komplexeren Technologien vergleichbar sind. Darüber hinaus ist VEECO K465i so skalierbar und flexibel wie möglich ausgelegt. Es kann in Einzelwerkzeugkonfigurationen für kleine bis mittlere Batch-Projekte sowie Multi-Tool-Konfigurationen für größere Pilotläufe verwendet werden. Der modulare Aufbau und die flexible Konstruktion ermöglichen eine einfache Integration in andere Geräte wie Roboter-Handler, Messtechnik oder kundenspezifische Vorrichtungen für eine schnelle Entwicklung. Darüber hinaus ermöglicht die Verwendung mehrerer Kammern und kundenspezifischer Rezepturen es dem K465i, verschiedene Arten von Folien für mehrere Anwendungen gleichzeitig zu erstellen und den Anwendern die Möglichkeit zu bieten, schnell und effizient ihren Produktionsanforderungen gerecht zu werden. Zusammenfassend ist VEECO TurboDisc K465i GaN Reactor ein fortschrittlicher Plasmareaktor, der innovative Plasmaquellentechnologie mit beispielloser Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und Temperaturregelung für die Abscheidung von dünnen Schichten für die Halbleiterbauelementherstellung kombiniert. Seine skalierbare und flexible Architektur ermöglicht es Kunden, es schnell und einfach in ihre Produktionslinien zu integrieren, während sein leistungsstarker HF-Generator es ermöglicht, verschiedene Abscheidungsmaterialien und -prozesse in hervorragender Qualität zu produzieren.