Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9409670 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN ist ein Hochleistungsreaktor MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition), der speziell für die Abscheidung von Gallium Nitrid (GaN) Schichten entwickelt wurde. Dies ist ein ideales Werkzeug für die Entwicklung fortschrittlicher GaN-basierter optoelektronischer Bauelemente wie Laser, Heteroübergang-Bipolartransistoren (HBTs) und anderer elektronischer Bauelemente. Die Ausrüstung ist mit einem leistungsstarken Laser- und Kammerdesign entworfen, um zuverlässige Gleichmäßigkeit für die Herstellung von Wafern mit großem Durchmesser mit hohen Erträgen zu gewährleisten. VEECO TurboDisc K465i GaN Reaktor verfügt über einen schnell rotierenden elektromechanischen Verschluss für Substratschutz, der schnelle Waferzellen und schnelle Waferwechsel ermöglicht. Dies wird mit einem schnellen Spül- und Pumpablauf kombiniert, um die Verarbeitungsgeschwindigkeit und den Durchsatz zu erhöhen. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über ein Gasmischpaket und ein spezialisiertes Gassteuerungssystem zur präzisen Gasförderung. Dies ermöglicht die Flexibilität, die Prozessparameter wie Reaktordruck, Temperatur und Gasdurchflussraten zu optimieren. Der EMCORE TurboDisc K465i GaN Reaktor ist mit einer fortschrittlichen Robotersubstrathandhabungs- und Schalteinheit ausgestattet. Diese verfügt über eine kleine Stellfläche, Hochgeschwindigkeitsbetrieb, und kleine und große Wafer-Lader. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine anpassbare und intuitive GUI (Graphical User Interface), die eine einfache Bedienung und ein Rezept-Format ermöglicht. TurboDisc K465i GaN-Reaktor verfügt über eine hocheffiziente Turbomolekularpumpe, um die Stillstandszeit der Pumpe zu reduzieren, eine ausgezeichnete Vakuumstabilität und eine längere Lebensdauer der Pumpe zu gewährleisten. Es ist auch mit einem schnellen direkten Kühlwerkzeug ausgestattet, das auf beiden Seiten der Reaktorkammer installiert werden kann. Diese Kühlvorrichtung hilft dem Benutzer, die Kammer auch bei anspruchsvollen Betriebsbedingungen kühl zu halten. Darüber hinaus kann das Schnellkühlmodell auch zum thermischen Glühen und zum Waferbonden verwendet werden. VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN Reaktor ist optimiert für langfristige Gleichmäßigkeit und hohe Ausbeute Betrieb, mit ausgezeichneten Substrat Gleichmäßigkeit, geringe Defektdichte, und eine ausgezeichnete Produktionsausbeute. Abschließend ist VEECO TurboDisc K465i GaN Reaktor eine hochentwickelte und zuverlässige Ausrüstung für die Herstellung von Hochleistungs-GaN-basierten optoelektronischen Geräten, die zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse ermöglicht.