Gebraucht VEECO / EMCORE TurboDisc K465i #9223149 zu verkaufen

VEECO/EMCORE TurboDisc K465i ist ein hochleistungsfähiger, HF-gesteuerter CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition). Es handelt sich um eine Halbleiterherstellungsvorrichtung, die für den Einsatz in dünnen Schichten wie SiO2, SiN und neuerdings Graphen entwickelt wurde. Das K465i verwendet ein patentiertes „Aufzugsdesign“, das ein schichtweises Wachstum von Halbleitermaterialien ermöglicht. Die physikalische Konstruktion des K465i ist eine „Aufzugsanordnung“, die es ermöglicht, die Wafer innerhalb der Kammer und der gesamten Kammer anzuheben und zu senken - und somit Schichten abzuscheiden. Die TurboDisc nutzt Elektronenzyklotronresonanz (ECR), um bei Temperaturen von 150 ° C bis 650 ° C Radikale und aktive Spezies zu erzeugen. Es bringt ein beträchtliches thermisches Budget in den Abscheidungsprozess und ergänzt das Repertoire dessen, was in einem Abscheidungsreaktor verarbeitet und gesteuert werden kann. Um aus diesem Temperaturbereich Nutzen zu ziehen, verwendet ECR zwei Magnetronstufen. Die Dual-Magnetron-Stufe ermöglicht Plasmagenerationen an der Waferoberfläche mit einem unabhängig gesteuerten Haupt- und Vorspannungsring. Es hat auch eine X-Y-Lenkfähigkeit, die die Substratbelastung vereinfacht. Die Standardsicherheitsmerkmale des K465i entsprechen den Sicherheitsvorschriften für Halbleiter und sind 12X größer als der Industriestandard. Kammerbehälter, Druckbegrenzungsventil, Differenzdruck-Vakuummessgerät, Entlüftungsleitung und motorisierte manuell betriebene Absperrraten entsprechen den Halbleiterstandards. Das K465i setzt FEST ein, ein Prozessleitsystem, das Rezepte akkumulieren und modularisieren, Prozessparameter überwachen und zu hoher Prozesswiederholbarkeit führen soll. FEST klassifiziert verwandte Rezepte in Ordner für einfachen Abruf. Relevante Prozessdaten wie Gasfluss, Druck, Vakuum, Wafertemperatur, Substratvorspannung werden automatisch gemessen und unkompliziert aufgezeichnet und lassen sich leicht mit Ergebnissen zur Prozessoptimierung und -verbesserung korrelieren. Fertigungstechnisch hat sich das K465i in der Halbleiterindustrie für seine einfache Bedienung, seinen hohen Durchsatz und seine gute Prozesssteuerung bewährt. Sein „Aufzug“ -Design reduziert die Ladezeit des Substrats und hilft, hohe Erträge zu erzielen. Das Dual-Magnetron-Feature erhöht die Plasmaintensität bei gleichzeitiger Verringerung der Elektronenenergie und bietet eine hervorragende Plasmaprofil-Gleichmäßigkeit. Das integrierte FEST Prozesssteuerungspaket bietet eine umfassende Analyse und verfeinerte Optimierung von Prozessrezepten. All diese Merkmale, zusammen mit seinen hervorragenden Sicherheitsmerkmalen, machen das K465i zu einem idealen Werkzeug für Halbleiterherstellungsanwendungen.